[发明专利]提高太阳能电池效率及制备高效率太阳能电池的方法无效
申请号: | 201110218925.X | 申请日: | 2011-08-01 |
公开(公告)号: | CN102280526A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | 韩培德;邢宇鹏;范玉杰;梁鹏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;B23K26/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提高 太阳能电池 效率 制备 高效率 方法 | ||
技术领域
本发明涉及太阳能电池技术领域,尤其涉及一种提高太阳能电池效率的方法,以及基于该方法制备高效率太阳能电池的方法,该太阳能电池包括但不限于是晶体硅、多晶硅、微晶硅、纳晶硅、非晶硅、铜铟镓硒、硫化镉或砷化镓等太阳能电池。
背景技术
硅太阳能电池是目前产量最大、应用最广的产品,晶体硅太阳能电池光伏效率的实验室最高记录已达到24.7%,而光伏效率的商用水平却只有18%,多晶硅太阳能电池光伏效率也只有16%,人们正在不断努力改进工艺,提高电池的光伏效率,以减小其差距[1]。改进的主要技术手段有:一是减少光在电池表面的反射率,如采用球形、金字塔形、锥形、柱形、金属纳米颗粒等陷光结构,这些措施可将太阳光的反射率降到10%以下;二是提高太阳能电池材料的光吸收率,如背面反射结构、多结结构、聚光等;三是加强光生载流子的有效收集,如加厚栅电极、减薄衬底、采用区熔(FC)硅衬底等。长期以来,人们一直注重增加电池对太阳光的吸收,并通过对光生载流子收集来提高短路电流,进而提高电池效率。然而,却忽略了电池开路电压的提高,忽略了半导体结质量的提高。黑硅的出现则给我们带来了另一种思路。
1998年美国哈佛大学的Eric Mazur教授和他的研究团队利用飞秒激光扫描置于六氟化硫(SF6)气体中的硅片表面[2],意外获得了一种表面微构造锥体材料,其在0.25~2.5μm的几乎全太阳光谱范围内具有>90%的光吸收率,类似黑体吸收的效果,故亦称之为“黑硅”。这种表面微构造黑硅具有以下特点:一是入射光进入锥体结构后会不断地向锥体底部折射,具有很强的广谱减反射效果;二是这种微构造黑硅表面纳米量级的厚度层内,硫系物质浓度远远超过了其在硅晶体中的饱和浓度;三是这种黑硅材料具有很高的光电响应,一个直径为250μm的黑硅光电二极管在850nm波长处的光电响应达到0.77A/W0V、60A/W1V、79A/W2V,92A/W3V的高值[3],这比通常硅pin光电探测器响应要高出100多倍,据此推算其短路时的内量子效率大于100%,带有明显的增益特征。
尽管黑硅晶锥的制作成本高,材料表层存在着大量由激光引入的晶格损伤、缺陷和复合中心,阻碍了光生载流子的输出,但黑硅光电探测器的增益特性是毋庸置疑的。最近,我们利用离子注入+激光辐照,已成功制备出低压下有增益的光电探测器,其在1000nm波段的光电响应为100A/W5V。根据我们的研究和理解,黑硅的本质就在于激光作用下的过饱和替位掺杂,而这种过饱和替位掺杂提升了费米能级位置,在光照下形成了对多数载流子的抽运。因此,黑硅为我们提供了一个用激光辐照来提高半导体掺杂浓度(即过饱和替位掺杂)的方法,开拓了一个提高电池开路电压的全新思路和途径,使电池开路电压摆脱硅中杂质固溶度的限制,从原理上可以突破硅电池30%效率的理论上限,必将引起研究硅光伏效应最大化的新一轮热潮。
参考文献:
[1]Martin A.Green,Solar Cells:Operating Principles,Technology,andSystem Applications,University of New South Wales(1986).
[2]熊绍珍、朱美芳,《太阳能电池基础与应用》,第五章:硅基薄膜太阳能电池,科学出版社,第一版,2009年10月。
[3]Her T H,Finlay R J,Wu C,Deliwala S and Mazur,E,Microstructuringof silicon with femtosecond laser pulses,Applied Physics Letters,73,1673(1998).
发明内容
(一)要解决的技术问题
随着硅中杂质浓度的提高,间隙掺杂与替位掺杂的比例就会越来越高,并在3×1020/cm3替位掺杂浓度下形成“死区”,即更多的掺杂不会被激活,只会形成大量的间隙掺杂,并转变成复合中心,使电池性能越来越差,进而准费米能级被限定。要解决的问题是:在重掺杂区域内如何用激光将间隙杂质尽可能多地转变成替位杂质。
(二)技术方案
为达到上述目的,本发明的技术方案如下:
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