[发明专利]真空镀膜装置有效
| 申请号: | 201110210232.6 | 申请日: | 2011-07-26 |
| 公开(公告)号: | CN102899620A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
| 发明(设计)人: | 黄水祥 | 申请(专利权)人: | 御林汽配(昆山)有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 昆山四方专利事务所 32212 | 代理人: | 盛建德 |
| 地址: | 215325 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 真空镀膜 装置 | ||
技术领域
本发明属于镀膜设备,特别涉及一种在真空沉积腔室内对工件镀膜的加工装置。
背景技术
真空镀膜技术在经济社会各个领域有着广泛应用,特别是科技迅速发展、人们生活的不断提高以及高科技镀膜产品的不断涌现,给真空镀膜技术的发展和推广应用带来了新的机遇。
真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜就是加热靶材,使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜。溅射镀膜,就是利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
发明内容
为了克服上述缺陷,本发明提供了一种基于真空溅射沉积技术的真空镀膜装置,该装置简单实用,操作方便。
本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种真空镀膜装置,包括真空沉积腔室、位于该真空沉积腔室内的托架和靶材,该托架为表面能放置镀膜工件的网状型穹顶结构,该托架之环部通过环状滚珠轴承支撑在位于该真空沉积腔室内的环形支撑架,该托架之环部侧部为齿条,并与位于该真空沉积腔室内的驱动齿轮啮合,而该驱动齿轮上转轴延伸出该真空沉积腔室后,由控制马达驱动转动,该靶材位于该穹顶结构下方,还设有一个可控制该靶材加热蒸发的加热机构,该穹顶结构与该真空沉积腔室顶部之间至少设有一个能对该托架上的工件加热的预加热机构。
作为本发明的进一步改进,该加热机构为安装于该真空沉积腔室内的、可放置该靶材的槽状金属加热体,该槽状金属加热体两侧设有一对电极,该对电极另一端引出于该真空沉积腔室后,分别与电源变压器之次级绕组引出端连接。
作为本发明的进一步改进,该预加热机构为电热丝加热体或红外加热体。
作为本发明的进一步改进,该托架顶部设有一个通孔,该通孔与该真空沉积腔室之间设有一个镀膜厚度检测机构,该镀膜厚度检测机构包括带有台阶孔的固定座、置于该固定座之台阶孔内的透明测试片以及位于该真空沉积腔室外且用于观测该透明测试片的影像传感器,该固定座设置于该通孔与该真空沉积腔室顶部下方之间,且该固定座之台阶孔针对该通孔设置,该影像传感器可通过该真空沉积腔室顶部上由透明玻璃材质组成的观察窗接收该透明测试片镀膜信息。
作为本发明的进一步改进,该真空沉积腔室侧部设有操作门,便于装卸该托架上镀膜工件。
本发明的有益技术效果是:所述托架呈网状的穹顶结构,并通过驱动马达和驱动齿轮来控制其支撑于环状支撑架转动,而所述靶材位于该托架之穹顶结构下方,这样所述靶材经加热机构加热后,其组分挥发到穹顶结构上的工件,达到真空镀膜目的,与此同时所述托架与所述真空沉积腔室之间还设有预加热机构,保证真空镀膜具有足够高温。
所述镀膜厚度检测机构通过影像传感器接收位于所述真空沉积腔室内透明测试片上的镀膜效果来达到检测工件实际镀膜效果。
附图说明
图1为本发明的半剖视结构示意图。
对照以上附图,作如下补充:
1——真空沉积腔室 71——槽状金属加热体
11——环部 72——电极
12——环状滚珠轴承 73——电源变压器
2——托架 81——电热丝加热体
3——靶材 91——固定座
4——环形支撑架 92——透明测试片
5——驱动齿轮 93——影像传感器
6——控制马达 100——工件
具体实施方式
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