[发明专利]一种可抗静电离型膜及其制作方法

权利要求书

1.一种可抗静电离型膜，其特征在于：包括由聚对苯二甲酸乙二醇脂膜（PET膜）构成的基材（1）和涂在基材（1）上表面的抗静电涂层I（2），抗静电涂层I（2）由硅酸乙脂系构成。

2.根据权利要1所述的一种可抗静电离型膜，其特征在于：所述抗静电涂层I（2）上设有离型层I（3），离型层I（3）由有机硅氧烷构成。

3.根据权利要1所述的一种可抗静电离型膜，其特征在于：所述基材（1）下表面涂有抗静电涂层II（4），抗静电涂层II（4）由硅酸乙脂系构成。

4.根据权利要3所述的一种可抗静电离型膜，其特征在于：所述抗静电涂层II（4）上设有离型层II（5），离型层II（5）由有机硅氧烷构成。

5.根据权利要1或3所述的一种可抗静电离型膜，其特征在于：所述抗静电涂层I（2）和抗静电涂层II（4）的膜面表面阻抗为10⁹Ω-10¹⁰Ω。

6.根据权利要1、2或4所述的一种可抗静电离型膜，其特征在于：所述离型层I（3）和离型层II（5）的膜面的离型力为5g/in-100g/in。

7.一种可抗静电离型膜的制作方法，其特征在于包括以下步骤：

A、基材（1）经电晕处理并使其润湿张力大于或等于52mN/m；

B、将硅酸乙脂系涂料涂在基材（1）的上表面和/或下表面，然后进行烘干形成抗静电涂层I（2）和/或抗静电涂层II（4）；

C、对形成的抗静电涂层I（2）和/或抗静电涂层II（4）进行附着度检查；

D、再在附着度合格的抗静电涂层I（2）和/或抗静电涂层II（4）上涂有机硅氧烷涂料，然后进行烘干形成离型层I（3）和/或离型层II（5）。

8.根据权利要7所述的一种可抗静电离型膜的制作方法，其特征在于：所述B步骤中，硅酸乙脂系的涂量为0.12μ-0.16μ，烘干温度为140℃±10℃，烘干时间为60s±5s。

9.根据权利要7所述的一种可抗静电离型膜的制作方法，其特征在于：所述C步骤中，附着度检查是用标准胶带7457贴平后，瞬间拉掉胶带后，测量被拉的部位与其他部位的表面阻抗，其表面阻抗的差异小于0.5x10⁹Ω为合格。

10.根据权利要7所述的一种可抗静电离型膜的制作方法，其特征在于：所述D步骤中，有机硅氧烷的涂量为0.3μ-1μ，烘干温度为150℃±5℃，烘干时间为15s±5s。