[发明专利]具有加热器的角腔

说明书

技术领域

此处描述的实施例涉及磁盘处理系统的领域，具体地涉及磁盘处理系统的具有加热器的角腔(comer chamber)。

背景技术

在磁记录盘的制造中使用各种处理系统。一个这种处理系统是可从日本的Canon ANELVA公司得到的ANELVA C-3050磁盘溅射系统。ANELVA C-3050磁盘溅射系统具有溅射台、加热台、冷却台、加载和卸载台和角台。角台连接彼此处于不同取向(例如直角)的线状排列的台的两个部分。ANELVA C-3050系统上的角台包括安装在腔体的顶棚中的烘烤加热器。烘烤加热器在系统维护期间使用以从腔体中的机械部件祛除潮湿从而获得系统的真空中提高的基底压力。

烘烤加热器在介质处理期间在生产操作中不被利用。ANELVAC-3050系统利用专用加热台来加热磁盘。专用加热台占据与其它台(例如溅射台)相同的空间，使用专用加热台增加磁盘溅射系统的整体占位面积，并且由此增加溅射系统的成本。

发明内容

附图说明

本发明在附图中通过示例方式图示说明而不限制，其中：

图1图示说明根据本发明的一个实施例的具有含有加热器组件的角腔的磁盘处理系统。

图2A是图示说明具有加热器组件的角腔的一个实施例的剖开立体图；

图2B是根据一个实施例的磁盘载体的一部分的平面图；

图3A是立体图且图3B是截面图，图示说明根据本发明的一个实施例的加热器组件；

图4是图示说明具有加热器组件的角腔的替换实施例的剖开立体图；

图5A是立体图且图5B是截面图，图示说明根据本发明的替换实施例的加热器组件。

具体实施方式

下面参照附图在此描述方法的实施例。然而，具体实施例可以不用一个或者更多个这些具体细节实施，或者与其它已知方法、材料和设备组合实施。在以下描述中，阐述多个具体细节(诸如具体材料、尺寸和处理参数等)以提供充分理解。在其它示例中，没有特别详细描述已知的制造处理和设备以避免混淆要求保护的主题。在本说明书中“实施例”意味着结合实施例描述的具体部件、结构、材料或者特征被包括在本发明的至少一个实施例中。由此，术语“在一个实施例中”在本说明书各个部分出现不一定指代相同实施例。此外，具体部件、结构、材料或者特征可以在一个或者更多个实施例中以任何合适方式组合。

具有含有加热器组件的角腔的磁盘处理系统的实施例，该加热器组件用于在生产期间加热经过角腔的磁盘。在一个实施例中，角腔中的加热器组件与载体旋转组件耦合以绕着载体旋转组件的旋转轴线转动加热器组件同时固定磁盘的载体被旋转组件转动。先进介质的开发通常要求在常规介质的膜堆中添加层。这种额外层的沉积可以要求在磁盘处理系统中额外的台。传统的磁盘处理系统可以在线性台中的一个中进行加热操作。通过利用本发明的实施例在角台中进行磁盘加热，先前用于加热操作的线性台可以不再被占用以用作溅射台或者其它类型的操作。应注意尽管本发明的实施例可以在此涉及介质或者磁记录盘讨论，但是此处讨论的设备和方法还可以用于其它类型的盘，例如，诸如压缩磁盘(CD)和数字多用盘(DVD)的光学记录盘。磁盘溅射系统在本领域中已知，因此，在此不提供进一步的细节。

图1图示说明根据本发明的一个实施例的具有含有加热器组件的角腔的磁盘处理系统。磁盘处理系统100包括位于不同线性部分的多个处理腔。各种类型的处理腔可以设置在任何台，例如但不限于化学气相沉积(CVD)、蚀刻、冷却、加热、加载、卸载、蚀刻等。图1图示说明的示例实施例包括处理台P1-P20、角台C1-C4、蚀刻腔P0、加载腔101和卸载腔102。处理台P1-P3位于第一线性部分。处理台P4-P12在与第一线性部分垂直的第二线性部分中。处理台P13-P15在与第二线性部分垂直的第三线性部分中。处理台P16-P20在与第三线性部分垂直的第四线性部分中。磁盘更换系统105用于将磁盘传输到和传输出磁盘处理系统100。

磁盘传输系统在各个台之间传输在处理流111中在磁盘载体上(贮存在载体贮存器119中)的一个或者更多个磁盘(例如磁盘120)。在一个实施例中，每个磁盘载体保持两个磁盘(例如磁盘120和121)使得两个磁盘在具体台内被处理。可替换地，磁盘载体可以固定超过或者少于两个磁盘。