[发明专利]一种光学膜片结构及其制造软光刻印章母模

说明书

技术领域

本发明涉及光学膜片，尤其涉及一种光学膜片结构及其制造软光刻印章母模。

背景技术

增亮膜最主要的功能是把通过扩散膜后的均匀光线，以反射和折射的方式控制光线的行进角度，使光线集中在使用者视角的范围内。一开始想要发展增亮膜的原因在于液晶显示器中的光源利用率极低，因为光源经过层层消耗后，从背光模组出来的光线，送到使用者眼中大约只剩下5％；更糟糕的是，未被使用的95％光源有一大部分会转换为热能，导致显示器中局部温度上升，加速显示器本身的劣化。因此，增亮膜是必须的。

目前，最常用的增亮膜以3M公司的菱镜片为主，这些增亮膜，因其聚光原理是运用棱镜内部的折射，于特定角度在聚光亮度上会出现峰值，在光学应用上会出现无效的高角度漏光以及于视角变化时造成亮度下降过大的情形，而在背光模块实际运用时，需要在其上表面及下表面各放置一张扩散片使光线均匀化。此外，由于棱镜片具有一定的轴向，因此均具有一定的聚光方向，实际产品则分有水平聚光与垂直角度聚光，但无法同时具备水平与垂直聚光功能。因此，在使用上，若要求水平与垂直角度同时聚光时，则必须使用一张水平聚光与一张垂直聚光的棱镜聚光片。再者，因棱镜聚光片的结构具有非常高的规则性，这也是规则结构的共性，搭配使用时会因为直接折射的光线与二次折射的光线产生干涉而造成所谓的“Reflective Moire”，避免的方法可以加上上扩散片以降低Moire的产生。“Pixel Moire”的产生是因为棱镜片与panel上的pixel皆是规则性的排列，在重叠后会在视觉上产生所谓的moire现象，pixel moire无法完全的消除，通常是利用上扩散片使pixel moire较不明显。

发明内容

针对上述现有技术存在的问题，本发明的一个目的在于，提供一种具有光学微结构单元的光学膜片结构，光学微结构单元具有统计意义上的无规则性，能够有效消除Moire纹，并使其同时具有多角度聚光功能，无须两张聚光片。

为了实现上述目的，本发明的技术方案为：一种光学膜片结构，包括一基片和一聚光层，其特征在于，聚光层设于基片一表面内与基片一体成型，或者独立设于基片表面上；所述聚光层包含有复数个聚光微结构单元，所述聚光微结构单元呈六棱锥无规则排布于基片表面上，六棱锥底面与基片表面贴合。聚光微结构单元的无规则分布，可有效消除Moire现象。

作为一种优选方案，所述复数个六棱锥状的聚光微结构单元的形状、取向不同，所述取向为六棱锥轴线与基片法线的夹角；每个聚光微结构单元的轴线不重合排布，所述聚光微结构单元轴线能交叉排布。

作为进一步的一种优选方案，所述聚光微结构单元轴线与基片法线的夹角为0-45度。

作为进一步的一种优选方案，所述聚光微结构单元的排布具有随机性，聚光微结构单元的尺寸和间距均具有统计意义上的主极大分布概率值和次极大分布概率值；所述尺寸为聚光微结构单元底面的六边形相距最远的两个点间的距离，间距为指每个聚光微结构单元轴线与基片表面的交点间的距离。

作为进一步的一种优选方案，所述尺寸的主极大分布概率值和次极大分布概率值处于200nm-50μm范围。

作为进一步的一种优选方案，所述间距的主极大分布概率值和次极大分布概率值处于200nm-50μm范围。

本发明的另一个目的在于，提供一种制造光学膜片结构的软光刻印章母模，由电镀工艺制备，包括在高峰值电流密度下的脉冲电镀金属厚膜，所述金属厚膜具有强面外{111}织构，织构度大于85%；所述金属厚膜包括有孪晶晶粒，孪晶的共格孪晶界面与金属厚膜表面的夹角为0-45度，所述金属厚膜表面为所述复数个六棱锥状的聚光微结构单元。

作为一种优选方案，所述高峰值电流密度至少为100ASD，电镀脉宽为0.1ms-1ms,占空比为2:1-1:2。

作为进一步的优选方案，软光刻印章采用热压或者浇注或者电铸的方法制备，为负型模具或者正型模具。

作为进一步的优选方案，所述软光刻印章由镍或者镍合金的非晶或者纳米晶构成；或者，软光刻印章为硬质聚合物。

与现有技术相比较，本发明具有以下优点：本发明通过六棱锥状的聚光微结构单元无规则随机分布，形成平滑起伏的结构，可有效消除Moire现象。 

附图说明

图1为本发明的光学膜片结构示意图；

图2为本发明的光学膜片结构的聚光微结构单元的俯视图；

图3为本发明的软光刻印章母模的金属厚膜X射线衍射实验衍射谱；