[发明专利]一种光学膜片结构及其制造软光刻印章母模

权利要求书

1.一种光学膜片结构，包括一基片和一聚光层，其特征在于，聚光层设于基片一表面内与基片一体成型，或者独立设于基片表面上；所述聚光层包含有复数个聚光微结构单元，所述聚光微结构单元呈六棱锥无规则排布于基片表面上，六棱锥底面与基片表面贴合。

2.根据权利要求1所述的光学膜片结构，其特征在于，所述复数个六棱锥状的聚光微结构单元的形状、取向不同，所述取向为六棱锥轴线与基片法线的夹角；每个聚光微结构单元的轴线不重合排布，所述聚光微结构单元轴线能交叉排布。

3.根据权利要求2所述的光学膜片结构，其特征在于，所述聚光微结构单元轴线与基片法线的夹角为0-45度。

4.根据权利要求3所述的光学膜片结构，其特征在于，所述聚光微结构单元的排布具有随机性，聚光微结构单元的尺寸和间距均具有统计意义上的主极大分布概率值和次极大分布概率值；所述尺寸为聚光微结构单元底面的六边形相距最远的两个点间的距离，间距为指每个聚光微结构单元轴线与基片表面的交点间的距离。

5.根据权利要求4所述的光学膜片结构，其特征在于，所述尺寸的主极大分布概率值和次极大分布概率值处于200nm-50μm范围。

6.根据权利要求4所述的光学膜片结构，其特征在于，所述间距的主极大分布概率值和次极大分布概率值处于200nm-50μm范围。

7.一种制造权利要求5或6所述光学膜片结构的软光刻印章母模，由电镀工艺制备，其特征在于，在高峰值电流密度下的脉冲电镀金属厚膜，所述金属厚膜具有强面外{111}织构，织构度大于85%；所述金属厚膜包括有孪晶晶粒，孪晶的共格孪晶界面与金属厚膜表面的夹角为0-45度，所述金属厚膜表面为所述复数个六棱锥状的聚光微结构单元。

8.根据权利要求7所述的软光刻印章母模，其特征在于，所述高峰值电流密度至少为100ASD，电镀脉宽为0.1ms-1ms,占空比为2:1-1:2。

9.根据权利要求7所述的软光刻印章母模，其特征在于，软光刻印章采用热压或者浇注或者电铸的方法制备，为负型模具或者正型模具。

10.根据权利要求9所述的软光刻印章母模，其特征在于，所述软光刻印章由镍或者镍合金的非晶或者纳米晶构成；

或者，软光刻印章为硬质聚合物。