[发明专利]玻璃基板的研磨方法及研磨装置

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃基板的研磨方法及研磨装置。

背景技术

液晶显示器等FPD(Flat Panel Display：平板显示器)用玻璃基板例如利用浮法窑炉等的玻璃带成形装置，将成形为带状的玻璃带在折断工序中折断加工成规定的矩形形状尺寸的玻璃基板，在倒角工序中对其进行倒角加工，从而制造出规定的外形尺寸的玻璃基板。并且，该玻璃基板经由设置于倒角工序的后段的清洗工序及检查工序而被向研磨工序移送，通过研磨除去表面的微小的凹凸或波纹度，而制造成满足FPD用玻璃基板所要求的平坦度的薄板状。

在所述研磨工序中，将玻璃基板的非研磨面吸附固定于工作台，将工作台向研磨部输送，一边对玻璃基板的研磨面供给研磨液(浆液)一边通过研磨工具来研磨玻璃基板的研磨面。

在该研磨时，研磨液从玻璃基板的缘部浸入玻璃基板的非研磨面的缘部，产生作为研磨液的成分的氧化铈或因研磨而削落的玻璃的成分附着于玻璃基板的非研磨面的缘部而污染缘部的不良情况。

为了防止该不良情况，在专利文献1的晶片的研磨方法中，在晶片的非研磨面上形成由合成树脂制的保护材料构成的保护膜。经由该保护膜将晶片的非研磨面固定于研磨夹具，从而保护晶片的非研磨面的缘部免受研磨液的污染。

另外，在专利文献2所公开的晶片的研磨方法中，在晶片的非研磨面与晶片载置用板之间夹设多元醇等缓冲材料，从而保护晶片的非研磨面的缘部免受研磨液的污染。

专利文献1：日本特开昭62-51226号公报

专利文献2：日本特开平6-61203号公报

然而，被称为连续式研磨装置的玻璃基板的研磨装置利用规定的环路一边输送吸附固定玻璃基板的非研磨面的工作台一边对玻璃基板的研磨面进行研磨。即，在构成环路的工作台的输送路径上依次设有玻璃基板的吸附固定部、研磨部、玻璃基板的卸下部、工作台清洗部。研磨前的玻璃基板的非研磨面被吸附固定在位于所述吸附固定部的工作台上，然后，通过工作台向所述研磨部输送而进行研磨。接下来，研磨后的玻璃基板通过工作台向所述卸下部输送，在此从工作台卸下玻璃基板。卸下了玻璃基板的工作台在通过所述清洗部期间被清洗，准备作为下一个玻璃基板的吸附用工作台。

在此，专利文献1所公开的研磨方法是在晶片的非研磨面上预先形成保护膜后进行研磨的方法。而且，专利文献2所公开的研磨方法是在晶片的非研磨面与晶片载置用板之间设置保护膜的方法。

然而，玻璃基板的尺寸的纵横尺寸超过1000mm的玻璃基板是主流，但难以对此种大型的玻璃基板预先形成所述保护膜。而且，由于另外需要用于形成保护膜的设备，因此存在难以将专利文献1的研磨方法用于玻璃基板的研磨方法中。

另一方面，若在通过工作台直接吸附玻璃基板的玻璃基板的研磨装置中采用在晶片的非研磨面与晶片载置用板之间设置保护膜的专利文献2的研磨方法，在研磨时，玻璃基板不稳定，因此这种方法不可行。

所述玻璃基板的研磨装置的工作台的吸附面由自身具有吸附性的片材构成。若对片材的表面进行干燥，则片材自身的吸附性减弱，在玻璃基板的研磨中，玻璃基板有可能会破裂。因此，为了防止吸附固定在该片材上的玻璃基板的非研磨面的干燥或提高片材的自身吸附性，而需要经由防止干燥用液将玻璃基板吸附固定在片材上。这种情况下也需要将防止干燥用液良好地供给到玻璃基板与片材之间。

发明内容

本发明鉴于此种情况而作出，其目的在于提供一种能够防止研磨液对玻璃基板的非研磨面的缘部的污染且能够将玻璃基板的非研磨面良好地吸附固定在工作台上的玻璃基板的研磨方法及研磨装置。

为了实现上述目的，本发明的玻璃基板的研磨方法包括：液体喷雾工序，朝向吸附固定玻璃基板的非研磨面的工作台对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的整个区域的区域从第一喷嘴喷出防止干燥用液，接着相对于所述工作台对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的缘部的区域从第二喷嘴喷出缓冲液；玻璃基板固定工序，经由所述防止干燥用液将玻璃基板的非研磨面的整个区域吸附固定于所述工作台，并且经由所述缓冲液将所述玻璃基板的非研磨面的缘部吸附固定于所述工作台；及研磨工序，一边向非研磨面被吸附固定于所述工作台上的所述玻璃基板的研磨面供给研磨液一边利用研磨工具研磨该研磨面。