[发明专利]等离子体处理装置及其处理气体供给机构

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其是一种在处理腔内发生电感耦合等离子体来对收纳在所述处理腔内的基板进行处理的等离子体处理装置，其特征在于，包括：

以覆盖所述处理腔的上部开口的方式设置的具有电介质窗的上盖；

设置于所述处理腔外的所述电介质窗的上部的高频线圈；和

气体供给机构，其以位于所述电介质窗的内侧的方式被支承于所述上盖，由层叠具有透孔的多块板体而成的层叠体构成，通过设置于所述板体之间或所述板体与所述电介质窗之间的、端部在所述透孔的边缘部开口的多个槽状的气体通道，从多个部位朝着水平方向向所述处理腔内供给处理气体。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述板体由电介质构成。

3.如权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述板体由石英或陶瓷构成。

4.如权利要求1～3中任意一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述板体为环状。

5.如权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于：

环状的所述板体按照越靠近所述电介质窗一侧的所述板体的内径越小的方式构成。

6.如权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于：

环状的板体的内径均相同。

7.如权利要求1～3中任意一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述板体的外径按照越靠近所述电介质窗一侧的所述板体越大的方式形成。

8.如权利要求1～3中任意一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述槽状的气体通道按照与所述高频线圈正交的方式设置。

9.如权利要求8所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在所述板体的所述槽状的气体通道的部分形成有金属薄膜。

10.一种等离子体处理装置的处理气体供给机构，该等离子体处理装置包括：以覆盖处理腔的上部开口的方式设置的具有电介质窗的上盖；和设置于所述处理腔外的所述电介质窗的上部的高频线圈，通过在所述高频线圈上施加高频电力，在所述处理腔内产生电感耦合等离子体来对被收纳在所述处理腔内的基板进行处理，该处理气体供给机构的特征在于：

以位于所述电介质窗的内侧的方式被支承于所述上盖，由层叠具有透孔的多块板体而成的层叠体构成，通过设置于所述板体之间或所述板体与所述电介质窗之间的、端部在所述透孔的边缘部开口的多个槽状的气体通道，从多个部位朝着水平方向向所述处理腔内供给处理气体。