[发明专利]光记录介质及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及光记录介质及其制造方法，具体而言，涉及具有无机记录层的光记录介质。

背景技术

过去，CD(光盘)、DVD(数字多功能盘)等已经引领了光记录介质市场。然而，近来由于电视的更高分辨率和PC(个人电脑)中数据处理的指数式增长，需要更高容量的光记录介质。响应该需求，已经出现了用于蓝色激光的诸如BD(蓝光光盘(注册商标))的高容量光记录介质，并且已经催生了高容量光记录介质的新市场。

关于可记录光记录介质，存在以DVD-R(数字多功能可记录光盘)和DVD±RW(数字多功能光盘±可重写)为代表的可重写光记录介质以及以CD-R(可记录光盘)、DVD-R(数字多功能刻录光盘)为代表的可记录光记录介质，特别是后者已经作为廉价介质极大促进了市场增长。因此，可以想象，在用于蓝色激光的高容量光记录介质中，市场增长同样需要可记录光记录介质的价格下降。

在可记录光记录介质中，根据标准，无机材料和有机染料材料均被允许作为记录材料。使用有机材料的可记录光记录介质具有其可以通过旋涂法以低成本制造的优势，而另一方面，使用无机材料的可记录光记录介质在再生耐久性和良好的推挽信号特性方面具有优势，但其劣势在于需要大型溅射系统。因此，为了使采用无机材料的可记录光记录介质可以在价格方面与采用有机材料的可记录光记录介质竞争，绝对有必要压缩制造设备的初期投资并通过改善每盘的节拍时间来高效地生产记录介质。··

作为解决上述问题的最有效手段，可以通过减少形成记录膜的层的数量以及减少沉积室的数量，压缩用于溅射系统的初期投资以及缩短制造节拍时间。然而，即使在简单地减少了层的数量时，如果使用了具有大厚度和低沉积率的材料，则反而可能增加制造节拍时间，并且还可能因此增加成本。

在相关技术中，主要使用诸如SiN或ZnS-SiO₂的透明介电材料作为使用无机材料的可记录光记录介质的保护层的材料(例如，参见专利文献1：JP-A-2003-59106)。然而，尽管SiN和ZnS-SiO₂具有高沉积率和良好生产率的优势，但是存在存储特性(存储可靠性)差的问题。在除了上述的介电材料以外的介电材料中，部分具有高存储可靠性，然而，因为需要射频(RF)溅射，这些材料存在沉积率非常低并且生产率差的问题。因此，难以达到存储可靠性和生产率之间的平衡。

为了解决该问题，已经提出了使用能够被DC-溅射的氧化铟和氧化锡(以下称为ITO)作为保护层的技术(例如，参见专利文献2JP-A-2009-129526)。在该技术中，可以在可记录光记录介质中实现高存储可靠性，同时可以通过减少沉积室的数量获得高生产率。即，将ITO用于保护层，可以获得高沉积率并且只通过一个室就可以使保护层更厚，结果，可以在保持设计自由度的同时减少室的数量。

发明内容

然而，如果ITO用于保护层，则随着持续使用ITO靶，可能很容易在靶表面上形成结节(nodule)。结节是随着溅射时间的推移，靶表面上出现的微小突起，并被认为是源自高阻抗材料的溅射渣。随着结节凝结的进一步析出，其周围发生击穿，并且其成为粉末并附着到屏蔽件和光盘。例如，当该粉末附着到光盘时，用于再生激光的导槽在有粉末的部分消失，并引起作为追踪伺服故障的光盘故障。当光盘故障增加时，必须停止生产并去除靶表面上的结节，这导致更低的生产能力利用系数，即，更低生产率。

因此，期望提供一种相比于使用氧化铟和氧化锡作为保护层的材料的情况，在存储可靠性方面有优势并且在生产率方面更有优势的可记录光记录介质及其制造方法。

作为不懈研究的结果，发明人已经发现并实验证实，使用包括氧化铟和氧化铈(氧化铟铈，以下称为ICO)或者氧化铟和氧化镓(氧化铟镓，以下称为IGO)的材料作为保护层的材料可以实现良好记录特性和高存储可靠性并可以获得高结节抵抗性，并作出了本发明的实施方式。

根据本发明的一个实施方式，光记录介质包括：无机记录层，以及设置在无机记录层的至少一个表面上的包括含有氧化铟的复合氧化物的保护层，其中，复合氧化物由化学式[(In₂O₃)_1-X(A)_X]表示，其中，A是氧化铈或氧化镓，并且X满足0.15≤X≤0.75的范围。