[发明专利]一种具有高碳氧比的单层石墨烯的制备方法无效

专利信息
申请号: 201110122065.X 申请日: 2011-05-12
公开(公告)号: CN102153077A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 汪浩;张永政;吴春卉;刘晶冰;朱满康;严辉 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: C01B31/04 分类号: C01B31/04
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 沈波
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 高碳氧 单层 石墨 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种操作简单、可大量生产具有高碳氧比的单层石墨烯的制备方法,属于功能材料的制备技术领域。

技术背景

单层石墨烯是单原子层紧密堆积的二维晶体结构,其中碳原子是以六元环形式周期性排列于石墨烯平面内。该新型二维碳材料具有诸多优异的性能,自2004年被发现以来引起了研究人员的广泛关注。石墨烯是普遍存在于其他碳材料中,并可以看作是其他维度碳基材料的组成单元:如三维的石墨可以看作是由石墨烯单片经过堆砌而形成;零维的富勒烯可看作由特定石墨烯形状团聚而成;而石墨烯卷曲后就可形成一维的碳纳米管结构。

尽管石墨烯只有一个碳原子厚度,是已知材料中最薄的一种,然而却非常牢固坚硬,它比钻石还强硬,其强度比世界上最好的钢铁还高100倍。石墨烯也是目前已知导电性能最出色的材料,其电子的运动速度达到了光速的1/300,远远超过了电子在一般导体中的运动速度。此外,石墨烯还具有许多优异的性能:如较高的杨氏模量(1100GPa)、热导率(5000w·m-1·K-1)、较高的载流子迁移率(2×105cm2·v-1·s-1)、大的比表面积(理论计算值2630cm·g-1)、铁磁性等。被认为在单分子探测器、集成电路、场效应晶体管等量子器件、功能性复合材料、储能材料、催化剂载体等方面有广泛的应用前景。深入研究石墨烯的制备和应用技术,有利于我国炭材料产业结构调整,向高附加值,低能耗的新型纳米材料方向发展,更有利于我国新能源产业,航空航天材料的升级换代,石墨烯的基础和性能研究具有前瞻性和应用性,具有良好的前景。

目前常用的制备方法包括:微机械剥离法、外延生长法和化学法。其中化学法的生产成本相对低廉,且可实现大量生产,成为目前研究的热点之一。该方法的基本思路是,在一定条件下,在某些极性介质中剥离分散石墨并氧化为氧化石墨烯,再经化学还原处理得到石墨烯。

发明内容

本发明的目的是提供一种具有高碳氧比的单层石墨烯的制备方法,采用天然鳞片石墨,用改良hummers法制得氧化石墨,并在马弗炉中进行高温膨胀,制得膨胀石墨,用一定浓度的水合肼进行深度还原,得到大量具有高碳氧比的单层石墨烯。

一种具有高碳氧比的单层石墨烯的制备方法,包括如下步骤:

(1)氧化石墨的制备:在干燥的反应器中加入98%浓硫酸和98%浓硝酸,98%浓硫酸和98%浓硝酸的体积比优选23∶10,冷却至0℃,搅拌加入鳞片石墨,浓硝酸与石墨的质量比为7-8∶1,搅拌均匀后,缓慢加入高锰酸钾,高锰酸钾与石墨的质量比为1.5-2∶1,控制反应温度不超过15℃,搅拌10min。再将反应器置于35℃的恒温水浴中,均匀搅拌反应2h。然后30min内加入去离子水,石墨与去离子水的质量比1∶20-30,控制反应温度低于100℃。加入去离子水终止反应,同时加入质量浓度30%H2O2水溶液,石墨与双氧水水溶液的质量比1∶1.5-2,趁热过滤,并用5%的HCl和去离子水洗涤至无SO42-(用BaCl2溶液检测),然后放在60℃的烘箱中干燥24h。所得产物即为氧化石墨。

(2)高碳氧比的单层石墨烯的制备:将步骤(1)的氧化石墨在马弗炉中900℃-1000℃高温膨胀15-30s,制得膨胀石墨,然后加入无水乙醇分散,每1g氧化石墨用20ml无水乙醇,并超声处理1h。然后加入质量浓度50%的水合肼,膨胀石墨与水合肼水溶液的质量比为1∶8-12,均匀搅拌后在100℃条件下水热24h。反应结束后,样品过滤分离洗涤,并在60℃的真空烘箱中烘干,即制得具有高碳氧比的单层石墨烯。

本发明采用改良hummers法制得轻度氧化的氧化石墨,这时,SO42-和NO3-与石墨层的碳形成共价键,插层于石墨层中,破坏了其层间原有的范德华力,使其层间距增大。插有层间化合物的氧化石墨在遇到高温时,层间大量的含氧基团将分解,产生一种沿石墨层间C轴方向的推力,这个驱动力远大于氧化石墨层间结合力,在这个驱动力的作用下,氧化石墨层间被剥离,形成具有单层结构的轻度氧化的氧化石墨。在过量水合肼的还原作用下,单层氧化石墨被还原为具有高碳氧比的单层石墨烯。

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