[发明专利]显示装置制造方法和显示装置

说明书

相关申请的交叉参考

本申请包含与2010年5月17日向日本专利局提交的日本优先权专利申请JP 2010-112997的公开内容相关的主题，在此将该优先权申请的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及显示装置制造方法和显示装置。

背景技术

已存在一种具有阵列基板和滤色器基板的显示装置。在此情况下，在阵列基板中，在透明基板上以阵列形式形成有多个诸如薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)等晶体管。此外，滤色器基板层叠在阵列基板的上方，且在滤色器基板与阵列基板之间有液晶层，并且滤色器基板的滤色器形成在透明基板上。

在该显示装置中，为了确保形成液晶层用的空间的目的，在阵列基板与滤色器基板之间设置有多个隔离件。因为在该多个隔离件所存在的区域中没有形成液晶层，所以就有一种可能性：透过隔离件而传输的光通常会漏出从而减小了对比度。

为此，在阵列基板中，在与设置有隔离件的区域相对应的区域中形成有用于遮光的遮光图形。然而，在此结构中，需要在阵列基板中新设置有形成该遮光图形用的区域。因此，像素中的透光区域即开口区域有所减小。总之，像素的开口率(aperture ratio)减小了。

另一方面，已知一种用于将隔离件设置在阵列基板的形成有TFT的区域上方的技术。由于TFT具有能够遮光的金属图形，因而TFT兼用作遮光区域。为此，将隔离件设置在形成有TFT的区域上方，就能够将隔离件转用为遮光图形，从而成为用来解决因隔离件引起的漏光的措施。利用该技术，因为不需要在阵列基板中新设置有形成遮光图形用的区域，因而能够增大像素的开口率。

例如，已知这样一种技术：利用该技术，在形成于有源元件侧基板上的有源元件的上方形成间隙控制层，该间隙控制层用于对在有源元件侧基板与对置侧基板之间所界定的间隙进行控制。这种技术例如记载在日本专利特许公报第Hei 10-62789号(以下称作专利文件1)中。

另外，作为隔离件的制造方法之一，已知这样的技术：利用该技术，在形成有遮光层的基板上形成感光树脂并利用该遮光层作为掩模从背面侧对感光树脂进行曝光之后，进行显影和烘烤处理，从而在该遮光层上选择性地形成了隔离件。这种技术例如记载在日本专利特许公报第Hei5-307181号中。另外，已知这样一种技术：利用该技术，使用基板上的黑矩阵图形作为掩模，利用线性光束进行背面曝光图形化处理，从而在平行的基板之间形成突起体(protrusion body)。这种技术例如记载在日本专利特许公报第Hei 7-120767号中。

然而，对于专利文件1所记载的技术，是在对置侧基板上形成要成为隔离件的间隙控制层之后，让有源元件侧基板和对置侧基板彼此重叠。因此，存在如下可能性：由于重叠精度的误差，间隙控制层会从形成有有源元件的区域偏移从而跨界至透光区域，而因此跨界后的间隙控制层会发生漏光。

发明内容

本发明是为了解决上述问题而提出的，因此，本发明的目的是期望提供能够在抑制因隔离件引起的漏光的同时增大开口率的显示装置制造方法以及显示装置。

为了实现上述期望，本发明一个实施方案提供了一种显示装置制造方法，所述方法包括如下步骤：在第一透明基板的表面上方形成正型光致抗蚀剂，所述第一透明基板设有形成在所述第一透明基板的所述表面上的晶体管，所述正型光致抗蚀剂覆盖所述晶体管；将光从所述第一透明基板的背面侧照射至在上方形成有所述正型光致抗蚀剂的所述第一透明基板，对所述正型光致抗蚀剂进行曝光；对这样曝光后的所述正型光致抗蚀剂进行显影，选择性地留下位于所述晶体管上方的所述正型光致抗蚀剂，由此形成隔离件；以及在所述第一透明基板的所述表面上方层叠第二透明基板，且所述隔离件位于所述第一透明基板与所述第二透明基板之间。

本发明另一实施方案提供了一种显示装置，所述显示装置包括：第一透明基板，在所述第一透明基板的表面上形成有晶体管；隔离件，所述隔离件形成在所述第一透明基板的所述表面上方，所述隔离件位于用于构成所述晶体管的漏极电极的上方，且在材料上由正型光致抗蚀剂制成；液晶层，所述液晶层以包围着所述隔离件的方式形成在所述第一透明基板的所述表面上方；以及第二透明基板，所述第二透明基板层叠在所述第一透明基板的所述表面上方，且所述隔离件和所述液晶层位于所述第二透明基板与所述第一透明基板之间。

如上文所述，根据本发明的显示装置制造方法及显示装置，在抑制了因隔离件引起的漏光的同时，能够增大开口率。

附图说明