[发明专利]显示装置制造方法和显示装置

权利要求书

1.一种显示装置制造方法，所述方法包括如下步骤：

在第一透明基板的表面上方形成正型光致抗蚀剂，所述第一透明基板设有形成在所述第一透明基板的所述表面上的晶体管，所述正型光致抗蚀剂覆盖所述晶体管；

将光从所述第一透明基板的背面侧照射至在上方形成有所述正型光致抗蚀剂的所述第一透明基板，对所述正型光致抗蚀剂进行曝光；

对这样曝光后的所述正型光致抗蚀剂进行显影，选择性地留下位于所述晶体管上方的所述正型光致抗蚀剂，由此形成隔离件；以及

在所述第一透明基板的所述表面上方层叠第二透明基板，且所述隔离件位于所述第一透明基板与所述第二透明基板之间。

2.如权利要求1所述的显示装置制造方法，还包括如下步骤：

将光从所述第一透明基板的所述表面侧照射至在上方形成有所述正型光致抗蚀剂的所述第一透明基板，对所述正型光致抗蚀剂选择性地进行曝光。

3.如权利要求2所述的显示装置制造方法，其中，

所述第一透明基板的所述表面上形成有具有遮光性能的遮光图形，将所述正型光致抗蚀剂形成得覆盖所述晶体管和所述遮光图形，并且

对曝光后的所述正型光致抗蚀剂进行显影，选择性地留下分别位于所述晶体管和所述遮光图形上方的所述正型光致抗蚀剂，由此分别形成所述隔离件和定向核。

4.如权利要求3所述的显示装置制造方法，还包括如下步骤：

对位于所述遮光图形上方的所述正型光致抗蚀剂进行半曝光。

5.如权利要求1所述的显示装置制造方法，其中，所述隔离件位于用于构成所述晶体管的漏极电极的上方。

6.如权利要求1所述的显示装置制造方法，其中，在所述第一透明基板与所述第二透明基板之间以包围着所述隔离件的方式形成液晶层。

7.如权利要求1所述的显示装置制造方法，其中，所述晶体管含有具有遮光性能的金属图形。

8.如权利要求1至7任一项所述的显示装置制造方法，其中，

在所述第二透明基板的表面上方形成滤色器，并且

以所述第一透明基板的所述表面与所述第二透明基板的所述表面相互面对的方式，将所述第二透明基板层叠在所述第一透明基板的所述表面上方。

9.一种显示装置，所述显示装置包括：

第一透明基板，在所述第一透明基板的表面上形成有晶体管；

隔离件，所述隔离件形成在所述第一透明基板的所述表面上方，所述隔离件位于用于构成所述晶体管的漏极电极上方，且在材料上由正型光致抗蚀剂制成；

液晶层，所述液晶层以包围着所述隔离件的方式形成在所述第一透明基板的所述表面上方；以及

第二透明基板，所述第二透明基板层叠在所述第一透明基板的所述表面上方，且所述隔离件和所述液晶层位于所述第二透明基板与所述第一透明基板之间。

10.如权利要求9所述的显示装置，还包括：

遮光图形，所述遮光图形具有遮光性能并且形成在所述第一透明基板的所述表面上；以及

定向核，所述定向核由正型光致抗蚀剂制成，所述定向核形成在所述第一透明基板的所述表面上方，且位于所述遮光图形上方。