[发明专利]铁基合金表面镀膜方法及由该方法其制得的镀膜件

权利要求书

1.一种铁基合金表面镀膜方法，包括以下步骤：

提供铁基合金基体；

于基体上溅镀铬金属层；

于铬金属层上蒸镀二氧化硅层；

于二氧化硅层上蒸镀氧化铝层；

于氧化铝层上蒸镀氮化硼层。

2.如权利要求1所述的铁基合金表面镀膜方法，其特征在于：溅射所述铬金属层的步骤采用如下方式实现：采用磁控溅射法，使用铬靶，铬靶的功率为8～12kw，以氩气为溅射气体，氩气流量为100～300sccm，对基体施加偏压为-100～-300V，基体的温度为20～200℃，镀膜时间为5～20min。

3.如权利要求1所述的铁基合金表面镀膜方法，其特征在于：蒸镀所述二氧化硅层的步骤采用如下方式实现工艺条件为：使用二氧化硅为蒸镀靶材，用电子束加热，电子束电流为90~120mA，通入流量为5～20sccm的氧气，沉积速率为5～20nm/s，基体的温度为100～200℃，沉积时间为10～30min。

4.如权利要求1所述的铁基合金表面镀膜方法，其特征在于：蒸镀所述氧化铝层的步骤采用如下方式实现工艺条件为：使用三氧化二铝为蒸镀靶材，用电子束加热，电子束电流为70~100mA，通入流量为15～30sccm的氧气，沉积速率为5～20nm/s，基体的温度为100～200℃，沉积时间为10～20min。

5.如权利要求1所述的铁基合金表面镀膜方法，其特征在于：蒸镀所述氮化硼层的步骤采用如下方式实现工艺条件为：使用氮化硼为蒸镀靶材，用电子束加热，电子束电流为60~90mA，基体的温度为20～200℃，沉积速度为0.5～2.5nm/s，沉积时间为10～30min。

6.如权利要求1所述的铁基合金表面镀膜方法，其特征在于：该铁基合金表面镀膜方法还包括在溅射所述铬金属层的步骤之前，对基体进行氩气等离子体清洗。

7.如权利要求1所述的铁基合金表面镀膜方法，其特征在于：该基体的材质为刃具钢、模具钢、量具钢及含铬的不锈钢中的一种。

8.一种镀膜件，包括铁基合金基体，其特征在于：该镀膜件还包形成于基体上的铬金属层、形成于铬金属层上的二氧化硅层、形成于二氧化硅层的氧化铝层以及形成于氧化铝层上的氮化硼层。

9.如权利要求8所述的镀膜件，其特征在于：该铬金属层的厚度为20~80nm，该二氧化硅层的厚度为3～10μm，该氧化铝层的厚度为3～5μm，该氮化硼层的厚度为600nm~3μm。

10.如权利要求8所述的镀膜件，其特征在于：所述铬金属层通过磁控溅射方法形成，所述二氧化硅层、氧化铝层及氮化硼层均通过蒸镀方法形成。