[发明专利]用于存储和传送大基板的密闭垂直支架

说明书

发明领域

本发明涉及一种用于存储和传送大基板的外壳(enclosure)。

背景技术

具有预先沉积的透明导电氧化物(TCO)层的大基板通常用于制造光电器件(photovoltaic device)。换句话说，在生产线中或可在光电器件生产线外部(off-site)或者远离其的制造设备中沉积TCO层。由于在将基板传送到光电器件生产线之前该TCO层可被进一步氧化或者污染，因此可能需要清洗步骤来清洗TCO层表面。但是，清洗步骤需要加工和处理时间，且由此增加了光电器件的总制造成本。发明人增加了一种情况，其中这些外壳可在具有或不具有TCO的情况下工作，且刚好可用于清洁和湿气控制、或者抛光之后的原玻璃(bare glass)的氧化控制、或具有会遭受老化的任何其他涂层的玻璃的氧化控制。

发明内容

根据本发明的一个方面，提供了一种用于存储和传送大基板的密闭垂直支架(enclosed vertical rack)。

密闭垂直支架包括可移动基座，在该可移动基座上用于容纳基板的外壳，在该外壳中用于接收基板的对准工具(alignment facility)，和用于密闭外壳的可密封门。该外壳或者门具有气体入口，并且该外壳或门具有气体出口。因此，在外壳内部的空气可替换成惰性气体以保护基板不被进一步氧化和污染。而且，垂直支架的可移动基座能在不同生产线之间在内部传送基板。

附图说明

因此，为了更详细理解本发明的上述特征，可通过参考实施方式获得对以上简要概括的本发明的更详细描述，其中一些实施方式在附图中示出。但是应注意，附图仅示出了本发明的典型实施方式，且因此由于本发明允许其他等效实施方式，不认为其限制本发明的范围。

图1是根据本发明实施方式的垂直支架的前视图。

图2是根据本发明另一实施方式的垂直支架中的对准工具的前视图。

图3是根据本发明另一实施方式的垂直支架的侧视图。

图4是根据本发明再一实施方式的垂直支架的前视图。

具体实施方式

本发明的实施方式一般涉及一种用于在垂直方向上存储和传送大基板的密闭垂直支架。本公开中使用的术语“大基板”是一种平面表面积大于约60cm×72cm、以及上至和超出2.2m×2.6m的基板。

图1是根据本发明实施方式的垂直支架的前视图。图1中，垂直支架100a包括可移动基座102、在可移动基座102上的外壳200、在外壳200中的对准工具300，和在外壳200前侧的可密封门400。门400显示为被切除(cut-away)以露出外壳200内部。

可移动基座102具有用于在不同生产线之间移动垂直支架100a的移动工具104。移动工具104例如可以是叉式升降槽(forklift slot)、转向轮(castor)、轨道轮(rail wheel)或提升钩(hoisting hook)。因此，垂直支架100a可通过人工导向或自动导向技术而移动。

在可移动基座102上的外壳200被用于容纳在大致垂直方向上设置的多个大基板500(以下简称为基板500)。外壳的容纳基板数目可高达50。如果基板500是玻璃基板，则50个基板500的重量可高达6000磅或6000磅以上。因此，外壳200可由诸如金属或玻璃纤维加固的塑料之类的结构坚硬的材料制成。

外壳200装配有气体入口202，以便使用诸如氮气或者氩气这样的惰性气体填充由外壳200和门300包围的空间。替换地，可使用诸如清洁干燥的空气这样的低湿气含量气体。外壳200还装配有气体出口204，其能够排出最初处在由外壳200和门300包围的空间内的空气。气体入口202包括防止自气体入口202发生疏忽泄漏的阀。因此，气体入口202例如可包括截止阀(shut-off valve)或者被集成在密封速断器(quick-disconnect)中。当气体入口被集成在密封速断器中时，在气体导管(gas conduit)被连接到气体入口202时气体入口202打开，而在气体导管与气体入口202断开以防止自气体入口202发生气体泄漏时气体入口202关闭。气体出口204包括控制通过气体出口204的气体流量的阀。因此，气体出口204可包括检查阀或者安全阀(relief valve)。因此，最初处在由外壳200和门300包围的空间中的空气可全部被惰性气体替换，从而当将基板500存储在垂直支架100a中时保护基板500不被任何氧化气体进一步氧化。