[发明专利]镀膜件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜件及该镀膜件的制备方法，特别涉及一种具有疏水效果的镀膜件及该镀膜件的制备方法。

背景技术

浸润性是固体表面的重要性质之一。疏水表面是指固体表面与水的接触角大于90°的表面。近年来，疏水表面在日常生活和工业领域有着越来越重要的应用价值。目前应用较多的主要为在固体表面涂覆表面能低的有机疏水层，其中该类有机疏水层以含氟和/或硅的高分子材料居多；但有机疏水材料通常具有硬度低、不耐磨、耐热温度低等缺点。

发明内容

鉴于此，有必要提供一种有效解决上述问题的镀膜件。

另外，还有必要提供一种上述镀膜件的制备方法。

一种镀膜件，其包括基体及形成于基体表面的疏水层，该疏水层为非晶态的硼-碳-氮层。

一种镀膜件的制备方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

采用真空镀膜的方式，以氮化硼靶为靶材，以乙炔为反应气体，在基体表面溅镀疏水层，该疏水层为非晶态的硼-碳-氮层。

本发明所述镀膜件在基体的表面沉积疏水层，该疏水层与水的接触角达到102～110°，具有良好的疏水性。同时该疏水层为非晶态的硼-碳-氮层，具有化学性质稳定、耐高温、硬度高、耐磨和耐腐蚀等优点，可有效保护基体，相应地延长了镀膜件的使用寿命。

附图说明

图1为本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图；

图2为本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

镀膜件            10

基体              11

疏水层            13

真空镀膜机        20

镀膜室            21

氮化硼靶          23

轨迹              25

真空泵            30

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施方式镀膜件10包括基体11、及形成于基体11表面的疏水层13。该基体11的材质可为非金属或金属，该非金属可为陶瓷或玻璃，该金属可为不锈钢、铝或铝合金等。

该疏水层13为非晶态的硼-碳-氮(B-C-N)层。该疏水层13可以磁控溅射的方式形成于所述基体11上，其厚度可为250～500nm。该疏水层13具有相对较低的表面能，且其与水的接触角可达102～110°。

本发明一较佳实施方式的镀膜件10的制备方法，其包括以下步骤：

提供基体11，该基体11的材质可为非金属或金属，该非金属可为陶瓷或玻璃，该金属可为不锈钢、铝或铝合金等。

将基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗，以去除基体11表面的污渍，清洗时间可为30～50min。

对经上述处理后的基体11的表面进行氩气等离子体清洗，以进一步去除基体11表面的油污，以及改善基体11表面与后续镀层的结合力。结合参阅图2，提供一真空镀膜机20，该真空镀膜机20包括一镀膜室21及连接于镀膜室21的一真空泵30，真空泵30用以对镀膜室21抽真空。该镀膜室21内设有转架(未图示)和相对设置的二氮化硼靶23。转架带动基体11沿圆形的轨迹25公转，且基体11在沿轨迹25公转时亦自转。

该等离子体清洗的具体操作及工艺参数可为：将基体11固定于真空镀膜机20的镀膜室21中的转架上，将该镀膜室21抽真空至3.0×10^-5Torr，然后向镀膜室21内通入流量约为500sccm(标准状态毫升/分钟)的氩气(纯度为99.999％)，并施加-200～-500V的偏压于基体11，对基体11的表面进行氩气等离子体清洗，清洗时间为3～10min。

采用磁控溅射法在经氩气等离子体清洗后的基体11上溅镀一疏水层13。该疏水层13为非晶态的B-C-N层。溅镀该疏水层13在所述真空镀膜机20中进行。开启氮化硼靶23，并设定氮化硼靶23的功率为0.2～1kw，以乙炔为反应气体，乙炔流量可为300～500s ccm，以氩气为工作气体，氩气流量可为300～500sccm。溅镀时对基体11施加-50～-300V的偏压，并加热所述镀膜室21至温度为150～420，镀膜时间可为20～60min。该疏水层13的厚度可为200～500nm。

下面通过实施例来对本发明进行具体说明。

实施例1