[发明专利]涂覆设备的真空室系统和利用该真空室系统的涂覆方法

说明书

本申请要求于2010年8月3日递交到韩国知识产权局的第10-2010-0074957号韩国专利申请的优先权和权益，所述韩国专利申请的全部内容通过引用被包含于此。

技术领域

本发明的方面涉及涂覆设备的真空室系统和利用该真空室系统的涂覆方法，更具体地讲，涉及可以提高产品质量的涂覆设备的真空室系统和利用该真空室系统的涂覆方法。

背景技术

通常，涂覆设备包括涂覆溶液入口和涂覆溶液出口。如果涂覆溶液被供应到涂覆设备的涂覆溶液入口，则其沿着涂覆溶液流动路径通过涂覆溶液出口喷涂。在这种情况下，在基材沿着在涂覆溶液出口侧的一个方向转移时执行涂覆。

当在基材的涂覆中执行薄膜涂覆或者高速涂覆时，涂覆溶液的涂覆珠粒沿着关于基材执行涂覆的方向从上游侧被推向下游侧。因此，涂覆珠粒的形状被修改，因此，可能执行不了涂覆。

发明内容

在一个实施例中，提供一种涂覆设备的真空室系统和利用该真空室系统的涂覆方法，所述真空室系统包括控制单元，所述控制单元用于控制空气使空气被选择性地吸入附着到涂覆设备的真空室和缓冲罐中，从而防止在间歇涂覆中的涂覆溶液的吸引现象。

根据本发明的方面，提供一种涂覆设备的真空室系统，该系统包括：真空室，连接到涂覆设备的涂覆溶液出口；声压产生单元，连接到真空室的一个区域，以产生声压；缓冲罐，设置在真空室和声压产生单元之间，其中，还在真空室和缓冲罐之间设置控制单元，控制单元控制空气使空气被选择性地吸入真空室和声压产生单元中或者与真空室和声压产生单元阻断。

控制单元可形成有第一控制单元和第二控制单元，所述第一控制单元和所述第二控制单元控制空气使空气被独立地吸入真空室和声压产生单元或者与真空室和声压产生单元阻断。

控制单元可被形成为三通开关阀。

三通开关阀可被手动或自动地操作。

在控制单元的操作下，缓冲罐可以暂时地吸收由声压产生单元产生的声压。

声压产生单元可被形成为风扇。

用于打开/关闭涂覆溶液出口的间歇式单元可进一步形成在涂覆溶液出口处。

在将活性材料浆涂覆在二次电池的金属基材上时可使用涂覆设备。

根据本发明的方面，提供一种利用涂覆设备的真空室系统的间歇涂覆方法，该方法包括：在空气与真空室和声压产生单元阻断从而声压作用于真空室的状态下，通过控制第一控制单元和第二控制单元来形成涂覆部分；在空气被独立地吸入真空室和声压产生单元中的状态下，通过控制第一控制单元和第二控制单元来形成非涂覆部分。

在形成涂覆部分的步骤中，第一控制单元可将真空室和声压产生单元控制为彼此连接。

在形成涂覆部分的步骤中，第二控制单元可将真空室和声压产生单元控制为彼此连接。

在形成非涂覆部分的步骤中，第一控制单元在阻断真空室和声压产生单元的同时可控制空气使空气被吸入真空室中。

在形成非涂覆部分的步骤中，第二控制单元在阻断真空室和声压产生单元的同时可控制空气使空气被吸入声压产生单元中。

如上所述，根据本发明的实施例，在间歇涂覆中防止涂覆溶液的吸引现象，使得涂覆的不合格率可减小，从而提高了产品的质量。另外，间歇涂覆被平稳地执行，从而提高了生产率。

附图说明

附图与说明书一起示出本发明的示例性实施例，且附图与描述一起用于解释本发明的原理。

图1是示出根据本发明的实施例的利用具有附着到涂覆设备的真空室系统的涂覆设备制备涂覆材料的工艺的示意性工艺视图。

图2A是示出涂覆珠粒的形状在薄膜涂覆或者高速涂覆中被改变的状态的剖视图。

图2B是示出利用真空室在涂覆珠粒中产生声压的状态的剖视图。

图3是示出在涂覆部分的端部(非涂覆部分始于该端部)发生吸引现象(attraction phenomenon)的状态的平面图。

图4是示出根据本发明的实施例的涂覆设备的真空室系统的剖视图。

图5是示出根据本发明的实施例的空气没有被吸入到涂覆设备的真空室系统的状态的框图。

图6是示出根据本发明的实施例的空气被吸入涂覆设备的真空室系统中的状态的框图。

图7是示出根据本发明的实施例的利用涂覆设备的真空室系统来涂覆材料的状态的平面图。

具体实施方式