[发明专利]涂覆设备的真空室系统和利用该真空室系统的涂覆方法有效

专利信息
申请号: 201110087238.9 申请日: 2011-04-02
公开(公告)号: CN102343321A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 金泰成 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: B05C11/10 分类号: B05C11/10;B05D1/26
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩明星;王青芝
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 设备 真空 系统 利用 方法
【权利要求书】:

1.一种涂覆设备的真空室系统,该真空室系统包括:

真空室,连接到涂覆设备的涂覆溶液出口;

声压产生单元,连接到真空室的一个区域,以产生声压;

缓冲罐,设置在真空室和声压产生单元之间,

其中,还在真空室和缓冲罐之间设置控制单元,控制单元控制空气使空气被选择性地吸入真空室和声压产生单元中或者与真空室和声压产生单元阻断。

2.根据权利要求1所述的真空室系统,其中,控制单元形成有第一控制单元和第二控制单元,所述第一控制单元和所述第二控制单元控制空气使空气被独立地吸入真空室和声压产生单元或者与真空室和声压产生单元阻断。

3.根据权利要求1所述的真空室系统,其中,控制单元被形成为三通开关阀。

4.根据权利要求3所述的真空室系统,其中,所述三通开关阀被手动或自动地操作。

5.根据权利要求1所述的真空室系统,其中,在控制单元的操作下,缓冲罐暂时地吸收由声压产生单元产生的声压。

6.根据权利要求1所述的真空室系统,其中,声压产生单元为风扇。

7.根据权利要求1所述的真空室系统,其中,用于打开/关闭涂覆溶液出口的间歇式单元进一步形成在涂覆溶液出口处。

8.根据权利要求1所述的真空室系统,其中,在将活性材料浆涂覆在二次电池的金属基材上时使用涂覆设备。

9.一种间歇涂覆方法,所述间歇涂覆方法利用具有连接到涂覆溶液出口的真空室、声压产生单元和缓冲罐的系统,该间歇涂覆方法包括:

在空气与真空室和声压产生单元阻断从而声压被提供到真空室的状态下,通过控制第一控制单元和第二控制单元来形成涂覆部分;

在空气被独立地吸入真空室和声压产生单元中的状态下,通过控制第一控制单元和第二控制单元来形成非涂覆部分。

10.根据权利要求9所述的间歇涂覆方法,其中,在形成涂覆部分的步骤中,第一控制单元将真空室和声压产生单元控制为彼此连接。

11.根据权利要求9所述的间歇涂覆方法,其中,在形成涂覆部分的步骤中,第二控制单元将真空室和声压产生单元控制为彼此连接。

12.根据权利要求9所述的间歇涂覆方法,其中,在形成非涂覆部分的步骤中,第一控制单元在阻断真空室和声压产生单元的同时控制空气使空气被吸入真空室中。

13.根据权利要求9所述的间歇涂覆方法,其中,在形成非涂覆部分的步骤中,第二控制单元在阻断真空室和声压产生单元的同时控制空气使空气被吸入声压产生单元中。

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