[发明专利]蓝光光盘用母盘及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光盘母盘及其制造方法，尤其涉及一种蓝光光盘用母盘及其制作方法。

背景技术

蓝光光盘(Blue-ray Disc，缩写为BD)是一种超大容量的光盘存储技术，随着光盘技术的不断创新，高密度光盘不断涌出，已经提出的一种蓝光光盘，其具有单面单层大约25GB(Gbytes)的记录容量，或者具有单面双层大约50GB的记录容量；从结构上来讲，单层蓝光光盘具有1.1mm厚度的基片，通过注塑成型工序将母盘(master disc)的凹坑转印到基片的表面上，再在基片上涂覆反射膜，反射膜上还有覆盖层；对于双层蓝光光盘而言，其结构与单层结构类似，其在1.1mm厚的基片上形成用作全反射膜的反射膜，光透射层亦称作中间层，其形成于反射膜上，在光透射层上形成半透明反射膜，并在其上覆盖有覆盖层。

制造蓝光光盘时，首先在玻璃基片表面涂覆抗蚀剂，通过激光光束曝光凹坑或沟槽图案，通过显影形成具有相应于抗蚀剂上的凹坑或沟槽的凹坑和凸起部分的盘形母盘，利用该盘形母盘通过电镀或溅镀形成金属制的母盘，通过将母盘附着于注塑成型工序装置的印模上，并将例如PC等的树脂注入到空腔中，从而形成转印有母盘的凹坑/凸起部分的光盘基片；当经喷射模塑的光盘基片被冷却至30℃或更低后，通过在凹坑表面一侧由溅射装置形成一薄金属薄膜而形成反射膜；然后，将作为粘接剂的UV(紫外线)硬化型树脂均匀涂覆于反射层上，且UV硬化型树脂形成的涂覆薄膜与PC薄膜被保持在相对的位置，并随后粘接；然后，向粘接有PC薄膜的光盘照射紫外线并硬化该UV硬化树脂，从而使该光盘基片与PC薄膜粘接；此外，UV硬化型硬质涂层材料被均匀涂覆到与光盘粘接的PC薄膜上，并且通过再次照射紫外线硬化该硬质涂层材料，从而生产出一硬质涂层，由此完成光盘的制备。

从上述蓝光光盘的制造中可看出，母盘是制造蓝光光盘的基础，由于蓝光光盘的高精度要求，相应的母盘也必须达到其精度要求，但目前尚无专门的生产方法来制造蓝光母盘，而是采用与DVD母盘相似的工艺和标准405纳米激光来生产，其采用普通光刻胶工艺将光刻胶旋涂到基片上，再以一定温度(一般为100-150度)烘烤一段时间，自然冷却后即用来曝光和显影。这种方法制备的基片经曝光后其刻蚀沟槽呈现倒梯形形状，即上表面宽阔，底部狭窄，其边缘坡度较大，产生这种现象的原因是在截面上光刻胶受光不均匀，上表面受光较多，下表面由于光线衰减，受光较少，这种截面形状不利于提高沟槽密度，因此普通光刻胶刻录精度不能达到蓝光光盘的要求。

在工艺无法改进其精度的情况下，一些特殊材料被用于其生产以提高精度，目前蓝光母盘生产多采用相变材料(PTM)和染料聚合物(Dye Polymer)等；PTM材料由于只对热量敏感，故在相同尺寸激光光斑照射下可产生小于光斑尺寸的曝光，但PTM材料价格昂贵，不易获得；而Dye Polymer则在激光照射下受热气化，因此照射过的区域会留下凹陷结构，但由于其在光刻过程中会释放气体，污染激光刻录机的物镜，因此需要在刻录过程中逐渐增加激光强度，增加激光刻录机的复杂性，并且也需要定期对物镜清洁。

因此，急需一种可适用于普通的光刻胶工艺，且又能满足蓝光光盘精度要求的母盘制作方法来解解上述现有技术的不足。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可适用于普通的光刻胶工艺，且又能满足蓝光光盘精度要求的蓝光光盘用母盘制造方法。

本发明的另一目的在于提供一种蓝光光盘用母盘，其可采用普通的光刻胶工艺制造，且又能满足蓝光光盘精度要求。

为实现上述目的，本发明的技术方案为：提供一种蓝光光盘用母盘的制造方法，包括如下步骤：(1)在洁净基片的一侧面上旋涂形成一吸光层；(2)将旋涂有吸光层的基片送入烘炉，对所述吸光层进行烘烤使其在高温加热中碳化，形成碳化吸光层；(3)将形成有碳化吸光层的基片输出并自然冷却至室温；(4)在所述碳化吸光层上旋涂一层光刻胶，形成光刻胶层；(5)将旋涂有光刻胶层的基片送入烘炉，对所述光刻胶层进行烘烤；(6)将烘烤后的基片进行曝光处理，曝光所述光刻胶层；(7)将经曝光处理后的基片进行显影处理，使光刻胶层形成凹凸形结构；(8)在形成凹凸形结构的光刻胶层上电镀形成一金属膜层。

较佳地，所述步骤(1)之前还包括对所述基片进行表面清洗的步骤。

较佳地，所述步骤(2)之前还包括将烘炉内的热板加热至250℃的步骤。