[发明专利]一种全抛釉用熔块及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种熔块及其制备方法，特别涉及一种全抛釉用熔块及其制备方法。

背景技术

熔块是使用原料预先熔融得到的玻璃体，通过预先熔融之后，可以排除釉料中的大部分气体，有助于减少釉面上的气泡、针孔等瑕疵，提升陶瓷制品的质量，是陶瓷配釉中的常用原料。

全抛釉砖是在坯体表面施一层全抛釉，经烧成、抛光而成的。具有彩釉砖装饰丰富和瓷质吸水率低、材质性能好的特点，又克服了彩釉砖釉上装施不耐磨、抗化学腐蚀的性能差和瓷质砖装饰方法简单的弊端，采用釉下装饰、高温烧成、釉面细腻、高贵华丽，属高档产品。

目前的全抛釉分为生料釉，熔块釉，半生料半熔块釉。全生料釉稳定性差，使用范围窄；全熔块釉，性能稳定，但成本太高，临时调节差；半生料半熔块釉，适应性强。施于全抛釉的全抛釉砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽。其釉料特点是透明不遮盖底下的面釉和各道花釉，抛釉时只抛掉透明釉的薄薄一层。目前一个重要的问题是，抛光后，釉面上存在大量的气泡，会吸污，对于某些色料的发色具有严重的影响。

此外，现有的全抛釉耐磨性较差，其耐磨性级别一般仅能达到3级。

发明内容

本发明的目的在于提供一种全抛釉用熔块及其制备方法。

本发明所采取的技术方案是：

一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为：Al₂O₃ 2～10份、SiO₂ 50～70份、CaO15～30份、K₂O 1～4份、Na₂O  1～4份、MgO 1～4 份，ZnO 1～4份；乙熔块的组成为：Al₂O₃ 15～30份、SiO₂ 30～50份、CaO 15～30份、K₂O 1～5份、Na₂O  1～5份、MgO 1～4份，ZnO 1～4份，所述份数为质量份。

甲、乙两种熔块质量混合比为30～150：100。

上述全抛釉用熔块的制备方法，包括以下步骤：

1)  根据甲、乙两种熔块的组成，分别称取原料，并将原料混合；

2)  将混合好的原料于1500～1580℃熔制好，分别得到甲乙两种熔块；

3)  将熔制好的熔块破碎。

优选的，将将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。

本发明的熔块，具有较高的始熔温度，透明度高。甲、乙两种熔块的始熔温度存在一定的区别，甲熔块的始熔温度相对较低，乙熔块的始熔温度相对较高，在烧制过程中，乙熔块作为骨架作用，可以保证高温下顺利排气，另外，由于两种熔块的组成在一定范围内接近低共融点 ，可以保证甲、乙两种熔块可以很好的熔融在一起。使用本发明熔块制备得到的全抛釉透明度高，表面无气泡，抛光后釉面光滑无微孔，不吸污纳垢，釉面呈哑光，质感好。

由本发明的熔块制得的釉层，耐磨性级别达5级，耐磨性好。

将熔块破碎至细度低于250目，使得熔块可以适用于多种制釉工艺。

具体实施方式

一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为：Al₂O₃ 2～10份、SiO₂ 50～70份、CaO15～30份、K₂O 1～4份、Na₂O  1～4份、MgO 1～4 份，ZnO 1～4份；乙熔块的组成为：Al₂O₃ 15～30份、SiO₂ 30～50份、CaO 15～30份、K₂O 1～5份、Na₂O  1～5份、MgO 1～4份，ZnO 1～4份，所述份数为质量份。

甲、乙两种熔块质量混合比为30～150：100。

上述全抛釉用熔块的制备方法，包括以下步骤：

1)  根据甲、乙两种熔块的组成，分别称取原料，并将原料混合；

2)  将混合好的原料于1500～1580℃熔制好，分别得到甲乙两种熔块；

3)  将熔制好的熔块破碎。

优选的，将将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。

下面结合实施例，进一步说明本发明。

实施例1