[发明专利]晶片的加工方法无效

专利信息
申请号: 201110076054.2 申请日: 2011-03-23
公开(公告)号: CN102208366A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 杉村敏正;西尾昭德;木内一之 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: H01L21/78 分类号: H01L21/78;H01L21/02
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 晶片 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种加工方法,所述方法为将切割用表面保护片贴附于半导体晶片,并且将切割胶带贴附在该晶片的背面侧,然后将该晶片与切割用表面保护片一起小片化来形成芯片,其特征在于,给予该切割用表面保护片刺激来产生收缩应力,从而使芯片的一部分从切割胶带剥离,此后,将该芯片从切割胶带剥离。

2.根据权利要求1所述的加工方法,其中,切割用表面保护片的至少一层由热收缩性的薄膜构成,且使用的切割用表面保护片使用了在40~180℃的温度范围显示3~90%的热收缩率的热收缩性薄膜。

3.根据权利要求1或2所述的加工方法,其中,使用的切割用表面保护片具有在40~75℃的加热下的粘合力为0.01N/20mm以上的粘合力,所述粘合力为在相对于硅片90°剥离、拉伸速度300mm/min的条件下的粘合力。

4.根据权利要求1~3中的任一项所述的加工方法,其中,在贴附切割胶带之前,将该晶片的背面侧研磨或蚀刻至规定的厚度。

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