[发明专利]晶片的加工方法无效
| 申请号: | 201110076054.2 | 申请日: | 2011-03-23 |
| 公开(公告)号: | CN102208366A | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
| 发明(设计)人: | 杉村敏正;西尾昭德;木内一之 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 晶片 加工 方法 | ||
1.一种加工方法,所述方法为将切割用表面保护片贴附于半导体晶片,并且将切割胶带贴附在该晶片的背面侧,然后将该晶片与切割用表面保护片一起小片化来形成芯片,其特征在于,给予该切割用表面保护片刺激来产生收缩应力,从而使芯片的一部分从切割胶带剥离,此后,将该芯片从切割胶带剥离。
2.根据权利要求1所述的加工方法,其中,切割用表面保护片的至少一层由热收缩性的薄膜构成,且使用的切割用表面保护片使用了在40~180℃的温度范围显示3~90%的热收缩率的热收缩性薄膜。
3.根据权利要求1或2所述的加工方法,其中,使用的切割用表面保护片具有在40~75℃的加热下的粘合力为0.01N/20mm以上的粘合力,所述粘合力为在相对于硅片90°剥离、拉伸速度300mm/min的条件下的粘合力。
4.根据权利要求1~3中的任一项所述的加工方法,其中,在贴附切割胶带之前,将该晶片的背面侧研磨或蚀刻至规定的厚度。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





