[发明专利]4,4’-二巯基二苯硫醚的合成方法有效

专利信息
申请号: 201110069713.X 申请日: 2011-03-22
公开(公告)号: CN102093269A 公开(公告)日: 2011-06-15
发明(设计)人: 袁继新;廖祖态;陈育亮;吕雪皓;陶明;钱超;陈新志 申请(专利权)人: 江西仁明医药化工有限公司
主分类号: C07C321/30 分类号: C07C321/30;C07C319/20
代理公司: 杭州中成专利事务所有限公司 33212 代理人: 金祺
地址: 332700 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 巯基 二苯硫醚 合成 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种4,4’-二巯基二苯硫醚的合成方法。 

背景技术

如式I所示的4,4’-二巯基二苯硫醚被广泛应用于医药、农药和染料等精细化学品中间体。 

式I 

CN02114837.6报道了以二苯硫醚、氯磺酸为起始原料,经氯磺化、锌粉还原制得4,4’-二巯基二苯硫醚;该法所需的锌粉消耗量大、价格昂贵,所制得的产品异构体多、含量不高。JP06032773和JP04264064报道了以二苯硫醚和二氯二硫反应,经三苯基膦还原制得4,4’-二巯基二苯硫醚,该法也同样存在异构体多,三苯基膦价格昂贵等不足,大大的限制了其工业化生产。 

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种工艺简洁、收率高的4,4’-二巯基二苯硫醚的合成方法。 

为了解决上述技术问题,本发明提供一种4,4’-二巯基二苯硫醚的合成方法,包括以下步骤: 

1)、酯化: 

在苯硫酚中滴加醋酐,然后升温至80~90℃反应直至GC分析已无苯硫酚;待所得的反应产物降温至5~15℃后,加水,取分层后所得的位于下层的有机层I;苯硫酚与醋酐的摩尔比为1∶1.1~1.5; 

2)、醚化: 

在步骤1)所得的有机层I中加入溶剂和作为催化剂的碘,并于10~15℃下滴加二氯 化硫,于10~15℃保温反应2~4h;在反应所得的产物中加水,取分层后所得的位于上层的有机层II;有机层II减压脱去溶剂后,得黄色固体;碘与苯硫酚的重量比为0.9%~2%,苯硫酚与二氯化硫的摩尔比为1∶1.1~1.3; 

3)、水解: 

在水中加入氢氧化钠和步骤2)所得的黄色固体,升温回流反应1~3h;然后降温至室温,滴加质量浓度为20~40%的盐酸溶液,过滤,得白色固体;氢氧化钠与苯硫酚的质量比为1~2∶1,盐酸与氢氧化钠的摩尔比为1.0~1.2∶1; 

4)、重结晶:将白色固体用重结晶溶剂进行重结晶,得白色晶体状的4,4’-二巯基二苯硫醚。 

作为本发明的4,4’-二巯基二苯硫醚的合成方法的改进:步骤1)的反应时间为1~3小时。 

作为本发明的4,4’-二巯基二苯硫醚的合成方法的进一步改进:步骤2)中的溶剂为环己烷、乙酸乙酯和二氯乙烷中的至少一种。 

作为本发明的4,4’-二巯基二苯硫醚的合成方法的进一步改进:步骤4)中的重结晶溶剂为苯、甲苯、石油醚或环己烷。 

本发明的4,4’-二巯基二苯硫醚新的合成方法,以苯硫酚和醋酐生成乙酸苯硫酚酯,再与二氯化硫反应直接生成4,4’-二硫代乙酯二苯硫醚,再酯水解得到4,4’-二巯基二苯硫醚,总摩尔收率在60%以上。本发明有着异构体少、反应温和、适合工业化生产等优点。反应式如式II所示。 

式II 

具体实施方式

实施例1、一种4,4’-二巯基二苯硫醚的合成方法,依次进行以下步骤: 

1)、酯化:于250ml三口烧瓶中搅拌状态下加入11g苯硫酚、室温下滴加7g醋酐,滴加结束,升温80-90℃反应2h,GC分析已无苯硫酚;然后降温至10℃,滴加50ml水,分层取位于下层的有机层I备用。 

2)、醚化:于500ml三口烧瓶中搅拌状态下加入步骤1)所得的有机层I,75ml环己烷和25ml乙酸乙酯的混合溶液,0.1g碘,降温至10℃,控温10~15℃下滴加5.5g二氯化硫,滴加结束,保温反应3h,在所得的反应产物中加入100ml水。分层取位于上层的有机层II,减压(0.01MPa)脱去溶剂,得25g黄色固体。 

3)、水解:于250ml三口烧瓶中搅拌状态下加入80ml水、16g氢氧化钠,搅拌溶解,加入步骤2)所得的黄色固体,升温回流2h,然后降温至室温(20~25℃),滴加50g(质量浓度30%)工业盐酸,过滤得白色固体20g。 

4)、重结晶:将20g白色固体用100ml苯重结晶,晾干得16g白色晶体,熔点:115-116℃,总摩尔收率为64%。所得产物经表征结构正确。 

实施例2、一种4,4’-二巯基二苯硫醚的合成方法,依次进行以下步骤: 

1)、酯化:于250ml三口烧瓶中搅拌状态下加入11g苯硫酚、室温下滴加7g醋酐,滴加结束,升温80~90℃反应2h,GC分析已无苯硫酚,降温至10℃,滴加50ml水,分层取位于下层的有机层I备用。 

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