[发明专利]显示设备

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2010年4月16日在韩国知识产权局递交的韩国专利申请No.10-2010-0035248的优先权和权益，该申请的全部内容通过引用合并于此。

技术领域

本公开涉及诸如液晶显示设备和有机发光显示设备之类的显示设备及该显示设备的制造方法。

背景技术

本发明的实施例涉及显示设备及其制造方法。更详细地说，本发明的实施例涉及诸如液晶显示设备和有机发光显示设备之类的可以实现平面图像的显示设备及该显示设备的制造方法。

发明内容

本发明的实施例提供一种改进开口率和电容的显示设备，及该显示设备的制造方法。

一方面是一种显示设备，包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括：有源层；栅电极；电连接到所述有源层的源电极；电连接到所述有源层的漏电极；以及形成在所述有源层与所述栅电极之间的栅极绝缘材料，其中所述栅极绝缘材料包括第一层、第二层和第三层；其中所述第二层具有所述第一层的厚度的大约0.1倍到大约1.5倍之间的厚度；并且其中所述第三层具有所述第二层的厚度的大约2倍到大约12倍之间的厚度。

所述第三层与所述第二层之间的刻蚀选择比可以为大约1∶20到大约1∶8，并且所述第二层与所述第一层之间的刻蚀选择比可以为大约1∶20到大约1∶8。

所述第一层和所述第二层可以由彼此不同的材料形成，使得所述第二层比所述第一层对刻蚀剂的响应快。

所述第二层和所述第三层可以由彼此不同的材料形成，使得所述第三层比所述第二层对刻蚀剂的响应快。

所述第三层和所述第一层可以各自包括氮化硅，并且所述第二层可以包括氧化硅。

所述源电极和所述漏电极中至少任意之一可以接触所述第二层。

所述源电极和所述漏电极中至少任意之一可以接触所述第一层。

所述有源层和所述第三层可以具有相同的刻蚀的侧面。

所述有源层、所述第三层和所述第二层可以具有相同的刻蚀的侧面。

所述显示设备可以进一步包括电容器，所述电容器可以包括：第一电极；第二电极；以及位于所述第一电极与所述第二电极之间的介电材料。

所述第一电极和所述栅电极可以由相同的材料并且由相同的工艺形成。

所述第二电极、所述源电极和所述漏电极可以由相同的材料并且由相同的工艺形成。

所述栅极绝缘材料的所述第一层和所述第二层可以延伸到所述电容器以提供所述介电材料。

所述介电材料可以仅包括一层，并且所述栅极绝缘材料的所述第一层可以延伸到所述电容器以提供所述介电材料。

所述栅极绝缘材料的所述第一层、所述第二层和所述第三层以及所述有源层可以延伸到所述电容器以提供所述介电材料。

所述电容器可以进一步包括：与所述第一电极连接的第一透明导电层；以及与所述第二电极连接的第二透明导电层。

另一方面是一种显示设备，包括：位于基板之上的薄膜晶体管；以及位于所述基板之上的电容器；其中所述薄膜晶体管包括：有源层、栅电极、电连接到所述有源层的源电极、电连接到所述有源层的漏电极，以及形成在所述有源层与所述栅电极之间的栅极绝缘材料，其中所述栅极绝缘材料包括第一层、第二层和第三层；其中所述电容器包括：第一电极、第二电极以及位于所述第一电极与所述第二电极之间的介电材料，其中所述介电材料比所述栅极绝缘材料包括少的层。

所述介电材料可以包括所述有源层和所述第三层。

所述介电材料可以包括所述有源层、所述第三层和所述第二层。

所述第二层可以具有所述第一层的厚度的大约0.1倍到大约1.5倍之间的厚度；并且所述第三层可以具有所述第二层的厚度的大约2倍到大约12倍之间的厚度。

附图说明

附图与说明书一起示出若干示例性实施例。

图1是示出显示设备的一个实施例的框图。

图2是图1所示的像素的等效电路图的实施例。

图3是图1所示的存储信号发生器的实施例的电路图。

图4是显示设备的一实施例的截面图。

图5是显示设备的另一实施例的截面图。

图6是显示设备的另一实施例的截面图。

图7是显示设备的另一实施例的截面图。

图8是显示设备的另一实施例的截面图。

图9A至图9D是示出图4所示的显示设备的实施例的制造方法的实施例的截面图。

图10A至图10D是示出图5所示的显示设备的实施例的制造方法的实施例的截面图。

图11A至图11F是示出图6所示的显示设备的实施例的制造方法的实施例的截面图。