[发明专利]加热器无效
| 申请号: | 201110064381.6 | 申请日: | 2011-03-17 |
| 公开(公告)号: | CN102685945A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
| 发明(设计)人: | 郭新贺;景玉鹏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号: | H05B3/26 | 分类号: | H05B3/26 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 加热器 | ||
技术领域
本发明涉及半导体微电子行业中加热器技术领域,尤其涉及一种采用石英材质的加热器。
背景技术
在半导体微电子行业中,衬底的清洗是至关重要的环节之一。随着半导体产业的飞速发展,技术节点进一步向前发展。新结构、新材料、更高的精度要求都给传统的清洗工艺带来了前所未有的挑战。
传统的方法主要通过化学试剂进行清洗,大量浪费化学试剂和水资源,且对环境造成污染,又如采用氯氟烃和其他一些卤化溶剂,由于它们会对臭氧层造成破坏,并危害健康和安全,所以其使用日益受到限制。目前开发的一些替代产品,也不同程度地存在价格昂贵、毒性大、易燃、易污染水质等缺点。超临界流体,特别是超临界CO2,作为一种特殊的清洗剂,其极小的表面张力等独特超临界流体独特的物理性质,加之无毒、不燃、惰性、便宜、易得、既不污染产品又不污染环境,在精密清洗中,已初步显示出独特的优越性,并逐渐得到广泛研究及应用。
超临界流体精密清洗的原理如下所述:超临界流体能够快速渗透部件表面基质的小空隙和毛细孔,将吸附和隐藏其中的一切杂质除去。目前用于精密清洗的主要流体是二氧化碳、或添加少量共溶剂组合体,它适用于溶解一系列的有机化合物。在半导体行业中,超临界水、超临界二氧化碳在去除光刻胶,MEMS工艺牺牲层技术清洗、干燥、释放等关键步骤上都表现出了强大的能力,完全可以解决困扰多年的光刻胶剥离,牺牲层释放等难题。而加热器是超临界清洗技术必不可少的组成部分。
在实现本发明的过程中,申请人意识到现有技术存在如下技术缺陷:由于加热器的原因,在超临界流体精密清洗过程中,所清洗的衬底可能会引入污染,尤其是金属污染。
发明内容
(一)要解决的技术问题
针对上述技术问题,本申请人提出一种采用石英材质的加热器,以解决现有技术中由于加热器的原因,在超临界流体精密清洗过程中,所清洗的衬底可能会引入污染的问题。
(二)技术方案
根据本发明的一个方面,提供了一种加热器。该加热器包括加热盘、加热元件和均热板,其中:加热盘,采用石英材料制备;均热板,采用石英材料制备,位于加热盘的上方,加热盘和均热板固定连接,加热盘和均热板之间形成空腔;加热元件,设置于加热盘和均热板之间的空腔内。
优选地,本技术方案加热器中,加热盘与均热板之间密封连接。
优选地,本技术方案加热器中,加热盘与均热板之间的密封连接采用以下方式中的一种:耐热密封胶密封、螺纹密封或烧结密封。
优选地,本技术方案加热器中,加热盘包括:环状隔离槽;加热元件为电阻丝,电阻丝绕设于环状隔离槽内,电阻丝和环状隔离槽之间的空隙填充有石英砂。
优选地,本技术方案加热器中,加热盘和均热板之间的空隙填充有石英砂。
优选地,本技术方案加热器中,加热盘底部设置中空隔热层。
优选地,本技术方案加热器中,中空隔热层为真空隔热层,该真空隔热层的气体压力小于100Pa。
优选地,本技术方案加热器中,中空隔热层内设置隔热材料,隔热材料为以下材料中的一种:多孔材料或真空隔热板。
(三)有益效果
本发明具有下列有益效果:
1)石英材料稳定的构成及其物理性质,保证了待加热衬底和加热元件的可靠隔离,从而避免了在衬底中引入污染;
2)加热盘与均热板采用烧结密封,进一步保证了待加热衬底和加热元件的可靠隔离;
3)在加热元件采用电阻丝的情况下,电阻丝和加热盘的环状隔离槽之间填充石英砂,进一步保证了待加热衬底和加热元件的可靠隔离,并且延长了电阻丝的使用寿命;
4)在加热盘的底部设置中空隔热层,该中空隔热层采用真空设计或填充隔热材料,可以使被加热硅片在较快时间内迅速升温,节约能源,并且有利于在超临界流体精密清洗的温度控制。
附图说明
图1为本发明实施例加热器的示意图;
图2为本发明图1所示加热器的整体结构图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明进一步详细说明。
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