[发明专利]喷墨涂敷装置以及方法有效

专利信息
申请号: 201110063887.5 申请日: 2011-03-17
公开(公告)号: CN102205707A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 真锅仁志;渡濑直树;岸村敏治;渡边胜义;中村秀男 申请(专利权)人: 株式会社日立工业设备技术
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01;B41J3/407
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 吕林红
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 喷墨 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种喷墨涂敷装置,包括:

上游侧的导辊,卷出并输送辊状的膜;

吸附台,吸附保持所卷出的该膜;

涂敷头,在该吸附台上吸附保持的该膜表面上涂敷液状的UV硬化型涂敷材料;

架子构造体,能够使该涂敷头在该膜的上方位置且在XY轴的平面内移动;

Z轴驱动单元,能够使该涂敷头上下动作;以及

紫外线光源,能够与该涂敷头一体地在XYZ轴方向上移动,

所述喷墨涂敷装置的特征在于,具备:

真空吸引单元,处于输送该膜的范围的外侧的位置,具有移动到该位置的该涂敷头下降而接触的吸入口,从该吸入口吸引该涂敷头的喷嘴;以及

遮光单元,对从该紫外线光源向该真空吸引单元的内部入射的紫外线光进行遮蔽,

其中,该喷墨涂敷装置构成为能够选择该真空吸引单元中的该紫外线光的遮蔽和该遮蔽的解除。

2.根据权利要求1所述的喷墨涂敷装置,其特征在于,

设置了多个所述涂敷头,

针对每个所述涂敷头,与所述涂敷头的配置关系相同地设置了所述真空吸引单元。

3.根据权利要求1所述的喷墨涂敷装置,其特征在于,

所述遮光单元利用直线式驱动单元,在所述真空吸引单元的上表面位置与脱离所述真空吸引单元的上表面的位置之间,按照光闸方式往复移动。

4.根据权利要求1所述的喷墨涂敷装置,其特征在于,

所述遮光单元是被固定了的遮光板,

所述真空吸引单元利用直线式驱动单元,在该遮光板的下表面位置与脱离该遮光板的下表面的位置之间往复移动。

5.根据权利要求1所述的喷墨涂敷装置,其特征在于,

所述遮光单元是被固定了的遮光板,

所述真空吸引单元利用直线式驱动单元,进行能够在所述膜侧的脱离所述遮光板的下表面的第1位置、所述遮光板的下表面的下侧的第2位置、以及与所述膜相反一侧的脱离所述遮光板的下表面的第3位置这3个位置定位的往复移动。

6.根据权利要求1所述的喷墨涂敷装置,其特征在于,

所述真空吸引单元通常由所述遮光单元遮蔽所述紫外线光的入射,在使用所述真空吸引单元来吸引所述涂敷头的涂敷材料喷出喷嘴时,解除由所述遮光单元实施的遮蔽。

7.根据权利要求1所述的喷墨涂敷装置,其特征在于,

所述真空吸引单元通常由所述遮光单元遮蔽所述紫外线光的入射,取得所述涂敷头的当前位置信息,在与真空吸引单元的距离进入到预先设定的范围内时,解除由所述遮光单元实施的所述紫外线光的入射遮蔽。

8.一种喷墨涂敷方法,

通过上游侧的导辊卷出并输送辊状的膜,

通过吸附台吸附保持所卷出的该膜,

通过涂敷头,在该吸附台上吸附保持的该膜的表面上涂敷液状的UV硬化型涂敷材料,

通过架子构造体,使该涂敷头能够在该膜的上方位置且XY轴的平面内移动,

通过Z轴驱动单元,能够使该涂敷头上下移动,

紫外线光源能够与该涂敷头一体地在XYZ轴方向上移动,

所述喷墨涂敷方法的特征在于,

该真空吸引单元配置在输送该膜的范围的外侧的位置,使移动到该位置的该涂敷头下降而接触到吸引口,从而从该涂敷头的喷嘴进行吸引,

该遮光单元对从该紫外线光源向该真空吸引单元的内部入射的紫外线光进行遮蔽,能够选择该紫外线光的遮蔽和遮蔽的解除。

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