[发明专利]猕猴桃的高垅栽培方法有效
| 申请号: | 201110062457.1 | 申请日: | 2011-03-16 |
| 公开(公告)号: | CN102177828A | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
| 发明(设计)人: | 张有连 | 申请(专利权)人: | 上海农夫果园 |
| 主分类号: | A01G17/00 | 分类号: | A01G17/00 |
| 代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人: | 徐关寿 |
| 地址: | 201316 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 猕猴桃 栽培 方法 | ||
1.一种猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于包括以下步骤:
步骤一、平整土地;
步骤二、起垅:控制垅间距6~8米,垅高0.5~0.6米,用表层土壤起垅,垅呈梯形,将垅沟捣平;
步骤三、定植:在垅上部开坑栽植,选择健壮猕猴桃苗进行栽植;将苗定植于坑中央,覆土夯实,浇足定根水;
步骤四、当年冬季将垅沟的表层土壤与有机肥混合后挖出堆于垅腰;
步骤五、次年冬季再将垅沟的表层土壤与有机肥混合后挖出堆于垅腰,使垅高达到0.9~1米;
步骤六、根据猕猴桃苗的生长情况施肥与培土。
2.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤一中包括将表层15~20厘米土壤与有机肥混合的步骤。
3.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤二中梯形垅的上边为0.8~1.2米,下边为1.6~2.4米。
4.如权利要求3所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤二中梯形垅的上边为1米,下边为2米。
5.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤三中坑深0.3~0.5米,坑宽0.3~0.5米。
6.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤二中猕猴桃苗的栽植时间为当年落叶后至次年2月下旬。
7.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤三猕猴桃苗定植浇水后附上15~20厘米厚的秸秆。
8.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤四中垅沟的表层土壤为表层15~20厘米土壤。
9.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤五中垅沟的表层土壤为表层15~20厘米土壤。
10.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,垅沟用于种植一年生农作物。
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