[发明专利]猕猴桃的高垅栽培方法有效

专利信息
申请号: 201110062457.1 申请日: 2011-03-16
公开(公告)号: CN102177828A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 张有连 申请(专利权)人: 上海农夫果园
主分类号: A01G17/00 分类号: A01G17/00
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 徐关寿
地址: 201316 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 猕猴桃 栽培 方法
【权利要求书】:

1.一种猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于包括以下步骤:

    步骤一、平整土地;

    步骤二、起垅:控制垅间距6~8米,垅高0.5~0.6米,用表层土壤起垅,垅呈梯形,将垅沟捣平;

    步骤三、定植:在垅上部开坑栽植,选择健壮猕猴桃苗进行栽植;将苗定植于坑中央,覆土夯实,浇足定根水;

    步骤四、当年冬季将垅沟的表层土壤与有机肥混合后挖出堆于垅腰;

    步骤五、次年冬季再将垅沟的表层土壤与有机肥混合后挖出堆于垅腰,使垅高达到0.9~1米;

    步骤六、根据猕猴桃苗的生长情况施肥与培土。

2.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤一中包括将表层15~20厘米土壤与有机肥混合的步骤。

3.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤二中梯形垅的上边为0.8~1.2米,下边为1.6~2.4米。

4.如权利要求3所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤二中梯形垅的上边为1米,下边为2米。

5.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤三中坑深0.3~0.5米,坑宽0.3~0.5米。

6.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤二中猕猴桃苗的栽植时间为当年落叶后至次年2月下旬。

7.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤三猕猴桃苗定植浇水后附上15~20厘米厚的秸秆。

8.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤四中垅沟的表层土壤为表层15~20厘米土壤。

9.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,步骤五中垅沟的表层土壤为表层15~20厘米土壤。

10.如权利要求1所述猕猴桃的高垅栽培方法,其特征在于,垅沟用于种植一年生农作物。

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