[发明专利]背面异物检测方法、背面异物检测装置以及涂布装置

权利要求书

1.一种背面异物检测方法，用于在涂布装置中在比长条状喷嘴更靠基板输送方向上游侧的位置处检测附着在上述基板的背面且对上述长条状喷嘴有害的有害背面异物，其中，上述涂布装置输送被处理基板，使被处理基板以规定的浮动高度通过混合设置有多个喷出口和多个吸引口的浮动区域，利用配置在上述浮动区域上方的长条状喷嘴向通过该长条状喷嘴下方的上述基板提供处理液来在上述基板上形成上述处理液的涂布膜，该背面异物检测方法具有以下步骤：

第一步骤，在光发射部与光接收部之间发射和接收从通过上述浮动区域的上述基板的上表面掠过而水平地横穿的光束，利用上述光接收部获取表示上述光束的受光量的受光量信号，其中，隔着浮动支承台而在该浮动支承台的两侧相向地配置上述光发射部与上述光接收部；以及

第二步骤，根据上述受光量信号，将上述光束的受光量的波形在时间轴上呈倒山形的轮廓作为监视对象，在上述光束的受光量的波形中检测到尺寸大于规定的基准尺寸的倒山形轮廓时，产生表示检测到上述有害背面异物的警报信号。

2.根据权利要求1所述的背面异物检测方法，其特征在于，

上述基准尺寸包括高度方向上的基准受光量减少峰值以及横方向上的基准直径尺寸。

3.根据权利要求2所述的背面异物检测方法，其特征在于，

上述基准受光量减少峰值以及上述基准直径尺寸依赖于上述基板的厚度、上述浮动高度、以及上述长条状喷嘴与上述基板之间的涂布间隙，并根据测试值来设定上述基准受光量减少峰值以及上述基准直径尺寸。

4.根据权利要求3所述的背面异物检测方法，其特征在于，

以将上述浮动高度与上述涂布间隙相加而得到的值为基准，设定上述有害背面异物的高度方向尺寸的下限值。

5.根据权利要求2所述的背面异物检测方法，其特征在于，

上述第二步骤包括以下步骤：

第三步骤，在时间轴上隔着规定间隔而设定的多个提取点处求出上述光束的受光量相对于规定受光量基准值的减少量；

第四步骤，累计分别从上述多个提取点得到的受光量的减少量；以及

第五步骤，将上述受光量减少量的累计值与规定阈值进行比较，在上述累计值大于上述阈值时，判断为在上述光束的受光量的波形中含有尺寸大于上述基准尺寸的倒山形轮廓。

6.根据权利要求5所述的背面异物检测方法，其特征在于，

在上述第三步骤中以百分比表示的方式求出上述光束的受光量的减少量，在上述第四步骤中通过乘法运算来对上述受光量减少量进行累计。

7.根据权利要求5或者6所述的背面异物检测方法，其特征在于，

上述受光量基准值是上述基板的开头部分沿上述基板输送方向通过上述光发射部和上述光接收部时、由上述光接收部得到的光束受光量的值。

8.根据权利要求5或者6所述的背面异物检测方法，其特征在于，

上述受光量基准值是在比上述多个提取点中时间最早的提取点提前固定时间的时刻、由上述光接收部得到的光束受光量的值。

9.根据权利要求5或者6所述的背面异物检测方法，其特征在于，

从上述多个提取点的开头至结束的时间长度小于上述基准直径尺寸而大于上述基准直径尺寸的一半。

10.根据权利要求5或者6所述的背面异物检测方法，其特征在于，

将上述多个提取点设置为三个位置以上。

11.根据权利要求1至6中的任一项所述的背面异物检测方法，其特征在于，

在上述第二步骤中，针对时间轴上的上述光束的受光量的波形，分配具有上述基准尺寸或者比上述基准尺寸小一圈的尺寸的倒山形轮廓的模型图案作为标准，如果发现有倒山形轮廓在多个位置处尺寸大于上述模型图案，则判断为该倒山形轮廓是尺寸大于上述基准尺寸的倒山形轮廓。