[发明专利]一种监控离子注入机异常的方法和装置

说明书

技术领域

本发明涉及半导体设备制造领域，尤其涉及一种监控离子注入机异常的方法和装置。

背景技术

在集成电路的制造中，EATON公司生产的NV1080、NV10160等NV10系列的离子注入机广泛应用于当前国内6″集成电路生产线；离子注入机是一种高真空设备，在生产过程(即离子注入机的注入过程)中，离子注入机内部的注入真空度将直接影响到产品的良率，过高或过低的注入真空度将会导致产品的相关参数(如掺杂阻值)超出预设的范围继而导致产品报废的问题。现有的离子注入机在注入过程中若真空度过低或过高时，只会在该离子注入机的屏幕上显示异常，单不具备报警功能；正常情况下，离子注入机在注入过程中其内部真空度稳定在一定范围内，若真空度过高或过低时，现有的离子注入机不具备报警功能，也不会主动的进行相应的处理，若异常情况持续较长时间而得不到及时处理的话，将可能影响产品性能，甚至会导致产品报废的问题；因此，在实际生产过程中，离子注入机常会由于注入真空过高而使得产品掺杂阻值过高，从而导致产品报废的问题；导致注入真空过高的主要原因如下：

生产时，在未对产品进行注入前或在注入过程中，由于一些调机参数不在菜单范围内，离子注入机中的DATALOCK(即数据锁定)系统会自动限制真空注入，从而使得离子注入机一直处于抽真空状态的异常状态，若操作人员没能及时发现该异常状态时，离子注入机则会因为抽真空时间较长使得真空度高于预设的范围，从而可能会导致产品报废的问题。

因此，现有的离子注入机在实际的生产过程中，不能确保真空度在预设的真空度范围内，从而存在注入真空的真空度过高而使得产品掺杂阻值过高，从而导致产品报废的问题。

发明内容

针对现有技术中存在的上述技术问题，本发明提供一种监控离子注入机异常的方法和装置，以实现在离子注入机在注入过程中的真空度超出预设的真空度范围时进行报警，以确保缩短真空度较高或较低的状态持续时间，从而提高产品的质量和降低产品的报废率。

一种监控离子注入机异常的装置，包括：

输入隔离单元，与离子注入机的剂量控制器和传片控制器相连接，用于接收所述剂量控制器发送的异常报警信号和所述传片控制器发送的注入运行信号，并输出所述异常报警信号和所述注入运行信号；

中央处理单元，与所述输入隔离单元相连接，用于在接收到所述输入隔离单元输出的注入运行信号之后，当接收到所述输入隔离单元输出的异常报警信号时，输出语音报警通知消息；

语音报警单元，与所述中央处理单元相连接，用于根据所述中央处理单元输出的所述语音报警通知消息，进行语音报警。

一种监控离子注入机异常的方法，包括：

输入隔离单元接收离子注入机的剂量控制器发送的异常报警信号和所述离子注入机的传片控制器发送的注入运行信号，并输出所述异常报警信号和所述注入运行信号；

中央处理单元在接收到所述输入隔离单元输出的注入运行信号之后，当接收到所述输入隔离单元输出的异常报警信号时，输出语音报警通知消息；

语音报警单元根据所述中央处理单元输出的所述语音报警通知消息，进行语音报警。

本发明实施例提供的装置在接收到离子注入机的传片控制器发送的注入运行信号之后，在接收到该离子注入机的剂量控制器发送的异常报警信号时，能够产生语音报警，从而可以及时的通知操作人员对该离子注入机的异常状态进行处理，以避免离子注入机长久的保持在真空度较高或较低的状态，而影响产品性能从而可能导致产品报废的问题。

附图说明

图1为本发明实施例中监控离子注入机异常的装置的结构示意图；

图2A为本发明实施例中输入隔离单元的电路结构示意图；

图2B为本发明实施例中输出隔离单元的电路结构示意图；

图3为本发明实施例中监控离子注入机异常装置的硬件结构示意图；

图4为本发明实施例中监控离子注入机异常的方法流程图；

图5为本发明实施例中监控离子注入机异常的具体的方法流程图。

具体实施方式