[发明专利]可挠式基板结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201110051030.1 申请日: 2011-02-25
公开(公告)号: CN102176435A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 胡克龙;王品凡;胡至仁 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L23/14 分类号: H01L23/14;H01L21/77;B32B27/06;B32B27/08
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 张浴月;刘文意
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 可挠式基 板结 及其 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种可挠式基板结构及其制作方法,尤其涉及一种利用局部改质工艺使离型层形成具有粘着性的粘着区以及不具粘着性的离型区的可挠式基板结构及其制作方法。

背景技术

在现今显示技术中,可挠式显示器由于具有高轻巧性、耐冲击性、可挠取性、可穿戴性与携带方便等优异特性,目前已俨然成为新一代前瞻显示技术。目前于可挠性显示器工艺技术中,主要技术瓶颈在于如何将薄膜晶体管(Thin-Film-Transistor,TFT)制作在可挠式基底(例如塑胶基底)上。

现行于可挠式基底上形成薄膜晶体管的方法主要是先将可挠式基底固定在于支撑载板(例如玻璃基底)上,而待薄膜晶体管制作完成后再借由离型技术使可挠式基底与支撑载板分离。公知的离型技术是使用真空蒸镀的高分子膜当离型层,再借由塑胶基底与玻璃基底本身的良好附着性加以贴合。换言之,必须将离型层作图形化,才能有效的在玻璃基板上产生附着力弱的离型区,以及附着力强的粘着区。然而利用高分子蒸镀直接形成图案化的离型层的制作成本高,且使用的阴影掩模(shadow mask)必须接触离型层而容易产生沾粘而导致离型层剥落(peeling)问题;而若用间接方式形成图形化的离型层,则必须增加额外工艺。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种可挠式基板结构及其制作方法,以节省可挠式基板结构的制作成本、增加其工艺良率与品质。

本发明的一优选实施例提供一种可挠式基板结构,包括支撑载板、可挠式基底与离型层。可挠式基底设置于支撑载板上。离型层设置于支撑载板与可挠式基底之间,且离型层与可挠式基底以及支撑载板接触。离型层包括具有粘着性的粘着区用以接合可挠式基底与支撑载板,以及不具粘着性的离型区用以支撑可挠式基底。

本发明的另一优选实施例提供一种制作可挠式基板结构的方法,包括下列步骤。提供支撑载板。于支撑载板上形成离型层。进行一局部改质工艺,以将部分离型层改质而形成具有粘着性的粘着区,而未改质的离型层则形成不具粘着性的离型区。

本发明可节省制作成本、增加工艺良率与品质。

附图说明

图1与图2示出了本发明一优选实施例的可挠式基板结构的示意图。

图3至图7示出了本发明一优选实施例的制作可挠式基板结构的方法示意图。

图8示出了不同的局部改质工艺与离型层的剥离强度的关系图。

图9与图10示出了本发明另一优选实施例的制作可挠式基板结构的方法示意图。

其中,附图标记说明如下:

10     可挠式基板结构                    12    支撑载板

14     可挠式基底                        16    离型层

14C    中央区                            14P   周边区

16B    粘着区                            16R   离型区

A      样本                              B     样本

C      样本                              D     样本

具体实施方式

为使本领域普通技术人员能更进一步了解本发明,下文特列举本发明的优选实施例,并配合所附附图,详细说明本发明的构成内容及所欲达成的功效。

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