[发明专利]半导体装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110049238.X 申请日: 2011-03-01
公开(公告)号: CN102194771A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 成濑俊道;高田秀夫 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/18;H01L23/495;H01L21/60;H01L21/56;G11B7/135
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,其中,该半导体装置至少具有:支承基板,在该支承基板的表面上具有用于设置元件的安装区域、设在上述安装区域的周围的内部电极,在该支承基板的背面设有外部电极;半导体芯片,其设在上述安装区域内,用于受光或进行发光;连接元件,其用于将设在上述半导体芯片上的焊盘与上述内部电极连接起来;透射元件,其设在上述半导体芯片的表面上,由透射光的材料构成且具有一定的厚度;保护膜,其以围绕上述受光或发光的光的通过区域的方式设在上述透射元件的表面上;绝缘树脂,其混入有填料,该绝缘树脂覆盖上述支承基板的表面、上述半导体芯片、上述连接元件、上述透射元件的侧面及上述保护膜的外侧侧面,并使上述保护膜的表面和由上述保护膜围绕的通过区域暴露。

2.一种半导体装置,其中,该半导体装置至少具有:在该半导体装置的表面上具有用于设置元件的岛和设在上述岛的周围的引线;半导体芯片,其设在上述岛上,用于受光或进行发光;连接元件,其用于将设在上述半导体芯片上的焊盘与上述引线连接起来;透射元件,其设在上述半导体芯片的表面上,由透射光的材料构成且具有一定的厚度;保护膜,其以围绕上述受光或发光的光的通过区域的方式设在上述透射元件的表面上;绝缘树脂,其混入有填料,该绝缘树脂覆盖上述岛、上述引线、上述半导体芯片、上述连接元件、上述透射元件的侧面及上述保护膜的外侧侧面,并使上述保护膜的表面和由上述保护膜围绕的通过区域暴露。

3.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其中,上述保护膜被设为比上述透射元件的外周向内侧后退,在暴露的透射元件上覆盖有上述绝缘树脂。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,上述保护膜由聚合了的树脂构成。

5.根据权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,上述保护膜由比上述绝缘树脂柔软的材料构成。

6.根据权利要求4所述的半导体装置,其中,上述保护膜由聚酰亚胺树脂构成。

7.根据权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,上述透射元件是对透射光的板进行了加工而成的。

8.根据权利要求7所述的半导体装置,其中,上述保护膜的表面与上述绝缘树脂的表面在实质上平齐。

9.根据权利要求7所述的半导体装置,其中,上述板为玻璃板或透明树脂。

10.根据权利要求9所述的半导体装置,其中,上述透射元件的俯视形状为矩形、圆、椭圆或十字状。

11.一种半导体装置的制造方法,其中,

该方法具体如下:

准备支承基板,在支承基板的表面上呈矩阵状排列有单元,该单元具有用于设置元件的安装区域、设在上述安装区域的周围的内部电极和设在背面的外部电极,并且受光或进行发光的半导体芯片与上述安装区域电连接并被设在上述安装区域上;

在上述半导体芯片的表面上设置有透射元件,该透射元件由表面、背面及侧面构成,且在上述表面上设有围绕光通过区域的保护膜;

将配置为上述矩阵状的上述安装区域设置到模具的模腔内,阻隔绝缘树脂流入由上述保护膜围绕的上述光通过区域内,统一地利用绝缘树脂进行密封;

在从上述模具中取出之后,对每个上述单元进行切割分离。

12.根据权利要求11所述的半导体装置的制造方法,其中,上述透射元件以如下方式形成:准备玻璃板或透明树脂板,将由阻焊剂或聚合了的树脂构成的上述保护膜作为第2单元而以矩阵状设在上述透射元件上,对每个上述第2单元进行切割加工或冲切加工。

13.根据权利要求12所述的半导体装置的制造方法,其中,上述保护膜与构成上述模具的上模或下模的内壁抵接,或者使树脂片材吸引在上述上模或下模的内壁上,使上述保护膜抵接在上述树脂片材上来阻隔上述绝缘树脂向上述光通过区域内的流入。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三洋电机株式会社,未经三洋电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110049238.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top