[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及例如向半导体晶体或LCD基板(液晶显示器用玻璃基板)等基板的表面供给处理液，进行规定的基板处理例如抗蚀剂液的涂敷、曝光后的显影处理等的基板处理装置和基板处理方法。

背景技术

在半导体器件、LCD基板的制造工艺中，通过被称作光刻的技术，对基板进行抗蚀剂图案的形成。该技术通过下述一系列工序而进行：在例如半导体晶片(以下称为晶片)等基板上涂敷抗蚀剂液，在该晶片的表面形成液体膜，使用光刻掩模对该抗蚀剂膜进行曝光之后，进行显影处理，由此得到期望的图案。

这样的处理一般使用将曝光装置连接于进行抗蚀剂液的涂敷、显示的涂敷、显影装置而成的抗蚀剂图案形成装置进行。例如，在该装置中，如图18所示，从收纳有多块晶片的载体10接受晶片，利用臂12交接至处理部1B，在该处理部1B中，进行反射防止膜形成模块(未图示)的反射防止膜的形成、涂敷模块13的抗蚀剂膜的形成，之后经由接口部1C搬送至曝光装置1D。另一方面，曝光处理后的晶片再次回到处理部1B，由显影模块14进行显影处理，之后回到原来的载体10内。在上述反射防止膜、抗蚀剂膜的形成处理的前后、显影处理的前后，利用在支架模块15a～15c中排列有多层的加热模块、冷却模块进行晶片的加热处理、冷却处理。

在处理部1B内，晶片通过主臂16A、16B在各模块之间被搬送，但在晶片被实施上述处理时，预先编程使其经由规定的通路被搬送，对预定处理的全部的晶片，预先决定分别在哪个时刻搬送至哪个模块的搬送行程表存储在存储器内，晶片依据该搬送行程表被搬送。如果将晶片被放置的场所称为模块，则上述搬送行程表是对晶片分配编号(顺序)，将使晶片的编号和模块的编号相关联并指定搬送循环的搬送循环数据依时间顺序排列而制成的。

此处，在抗蚀剂图案形成装置中，从提高生产率的观点出发，多设定有多模块。该多模块是指，搬送的编号相同，对晶片进行相同处理的多个模块，但由于故障、维修等理由可能不能够使用构成多模块的模块。对于此时的晶片的搬送，例如在专利文献1中有作出提案。该方法是，将预定搬送至不能够使用的模块的晶片搬送至暂时退避模块，在由构成多模块的其它能够使用的模块结束其它晶片的处理之后，将退避至退避模块的晶片搬送至上述其它的能够使用的模块。

但是，为了提高生产率，要求在处理部1B中设置有多个与处理关联的模块，难以确保退避模块的设置空间。更何况在多模块中，可能在多个模块同时发生药液交换、泵维修等维修、喷嘴的故障等。此时为了应对多个模块不能够使用的情况，必须准备多个退避模块，但很难确保这样的空间。

此外，如果代替退避模块，使晶片暂时退避至编入搬送行程表的接收台，则不能够依据记载于搬送行程表的搬送循环搬送晶片，发生晶片搬送停止、搬送延迟等问题。因此，可能会导致例如在加热模块中晶片停留，该晶片在模块内过热，由此膜质劣化、晶片制品不良。

专利文献1：日本特开2006-203003号公报(0037～0039段)

发明内容

本发明鉴于上述问题而提出，其目的在于提供下述技术：在构成多模块的多个模块的一个不能够使用，成为不可使用模块时，通过将基板的搬送目的地变更为能够使用的模块并进行搬送，也能够迅速地进行基板的搬送，能够抑制基板制品不良的发生。

因此，本发明提供一种基板处理装置，其包括载置各基板且搬送的编号顺序已被确定的模块组，在模块组中，包括搬送的编号顺序相同且对基板进行相同处理的多个模块构成的多模块，

利用搬送部件从一个模块取出基板，在接受下一模块的基板之后将先前的基板交于该下一模块中，由此通过将置于各模块中的基板向顺序上为后一个的模块移动来进行一个搬送循环，在进行该一个搬送循环之后，进入下一搬送循环，通过依次进行各搬送循环，基板依次从上述模块组中的编号顺序小的模块搬送至编号顺序大的模块，并被实施规定的处理，

在通常时，对上述多模块的各模块从之前的模块开始以基板的规定顺序进行分配，

该基板处理装置的特征在于，包括：

存储部，其存储对基板分配编号顺序，将使基板的编号顺序与各模块相关联并指定搬送循环的搬送循环数据依时间顺序排列而制成的搬送行程表；和

控制部，其以参照上述搬送行程表，将写入搬送循环数据的基板搬送至与该基板对应的模块的方式控制上述搬送部件，由此实施搬送循环，

上述控制部构成为，在构成上述多模块的多个模块的至少一个为不能够使用的不可使用模块并且至少一个处于能够使用的状态时，进行下述(1)和(2)的动作：