[发明专利]无碱玻璃基板以及无碱玻璃的制造方法和制造装置

说明书

技术领域

本发明涉及用于液晶面板的无碱玻璃基板以及无碱玻璃的制造方法和制造装置。

背景技术

液晶面板用玻璃基板通常采用实质上不含碱金属氧化物的无碱玻璃基板。玻璃基板上通过光刻技术和蚀刻技术形成各种图案。例如，形成薄膜晶体管(TFT)和彩色滤光膜(CF)。

这样的液晶面板的制造工序中，有时用缓冲氢氟酸(BHF)对玻璃基板进行蚀刻处理。这时，溶液中的铵离子有可能会与玻璃反应而使玻璃表面出现白浊。

于是，近年来，为了防止玻璃表面出现白浊，提出了实质上不含镁氧化物的无碱玻璃基板(参照例如专利文献1)。

专利文献1：日本专利特公平4-58421号公报

发明内容

然而，上述专利文献1中虽然提及无碱玻璃基板的玻璃组成，但没有关于无碱玻璃基板的制造方法的说明。

作为无碱玻璃基板的制造方法，已知例如浮法。浮法是如下的方法：使熔融玻璃流出至浮法锡槽内的熔融锡上而成形为带板状的玻璃带，将成形而得的玻璃带搬运至退火炉内，退火后进行切割，从而制造规定尺寸的玻璃基板。

通常，为了防止熔融锡的氧化，向浮法锡槽内供给包含氮和氢的还原性气体。氢具有与混入浮法锡槽内的氧反应而形成水的性质，所以起到使浮法锡槽内的气氛中的氧浓度降低的作用。

供给至浮法锡槽内的还原性气体通过玻璃带搬入口流入退火炉内。此外，空气从外部通过玻璃带搬出口及其他非主动设置的连通炉内和炉外的间隙(例如，设于炉壁的开口部的内周与穿过该开口部的辊的外周之间的间隙)流入退火炉内。退火炉内的气氛中的氧浓度由这些空气的流入量与还原性气体的流入量的平衡决定。

如果退火炉内的气氛中的氧浓度在玻璃带搬入口附近过高，则液晶面板的制造工序中采用缓冲氢氟酸进行蚀刻处理时玻璃表面容易出现白浊。如果玻璃基板出现白浊，则作为产品的液晶面板的成品率下降。

本发明是鉴于上述课题而完成的发明，其目的在于提供可提高作为产品的液晶面板的成品率的无碱玻璃基板。

为了达成上述目的，本发明的无碱玻璃基板是用于液晶面板的无碱玻璃基板，其中，在缓冲氢氟酸溶液中于25℃浸渍20分钟后的雾度值在7.0％以下，所述缓冲氢氟酸溶液的组成为氢氟酸(HF)：5.3质量％、氟化铵(NH₄F)：35.8质量％、水：其余部分。

此外，本发明的无碱玻璃基板的制造方法包括将熔融玻璃成形为带板状的玻璃带的成形工序和将成形而得的所述玻璃带搬运至退火炉内进行退火的退火工序，所述退火工序中，使所述退火炉内750～500℃的所述玻璃带所处的气氛中的氧浓度在3.0体积％以下。

此外，本发明的无碱玻璃基板的制造装置具备将熔融玻璃成形为带板状的玻璃带的成形炉和对成形而得的所述玻璃带进行退火的退火炉，所述退火炉内750～500℃的所述玻璃带所处的气氛中的氧浓度在3.0体积％以下。

如果采用本发明，则能够提供可提高作为产品的液晶面板的成品率的无碱玻璃基板。

附图说明

图1是本发明的一种实施方式的无碱玻璃基板的制造方法的工序图。

图2是本发明的一种实施方式的无碱玻璃基板的制造装置的主要部分剖视图。

符号的说明

10    熔融玻璃

10A   玻璃带

20    成形炉(浮法锡槽)

22    熔融锡

30    退火炉

36    炉壁

38    开口部

40    搬运单元

42    辊

具体实施方式

以下，参照附图对实施本发明的方式进行说明。

液晶面板用玻璃基板通常采用实质上不含碱金属氧化物的无碱玻璃基板。玻璃基板上通过光刻技术和蚀刻技术形成各种图案。例如，形成薄膜晶体管(TFT)和彩色滤光膜(CF)。这样的液晶面板的制造工序中，有时用缓冲氢氟酸(BHF)对玻璃基板进行蚀刻处理。

本实施方式的无碱玻璃基板在组成为氢氟酸(HF)：5.3质量％、氟化铵(NH4F)：35.8质量％、水：其余部分的缓冲氢氟酸溶液中于25℃浸渍20分钟后的雾度值在7.0％以下，较好是在5.0％以下，更好是在1.0％以下。

在这里，雾度值是指表示浊度的值，根据用灯进行照射时从试样中透射的总透射率T和在试样中被散射的光的透射率S以雾度值H＝S/T×100求得。这些值基于JIS K 7136的规定，可通过市售的雾度计测定。