[发明专利]无碱玻璃基板以及无碱玻璃的制造方法和制造装置无效
| 申请号： | 201110037454.2 | 申请日： | 2011-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN102190446A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 龙腰健太郎 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C03B18/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 刘多益;胡烨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃 以及 制造 方法 装置 | ||
1.一种无碱玻璃基板，该无碱玻璃基板用于液晶面板，其特征在于，
在缓冲氢氟酸溶液中于25℃浸渍20分钟后的雾度值在7.0％以下，所述缓冲氢氟酸溶液的组成为氢氟酸(HF)：5.3质量％、氟化铵(NH4F)：35.8质量％、水：其余部分。
2.如权利要求1所述的无碱玻璃基板，该无碱玻璃基板通过将熔融玻璃成形为带板状的玻璃带后将成形而得的所述玻璃带搬运至退火炉内进行退火而成，其特征在于，
使所述退火炉内750～500℃的所述玻璃带所处的气氛中的氧浓度在3.0体积％以下。
3.一种无碱玻璃基板的制造方法，它是权利要求1所述的无碱玻璃基板的制造方法，其特征在于，
包括将熔融玻璃成形为带板状的玻璃带的成形工序和
将成形而得的所述玻璃带搬运至退火炉内进行退火的退火工序，
所述退火工序中，使所述退火炉内750～500℃的所述玻璃带所处的气氛中的氧浓度在3.0体积％以下。
4.如权利要求3所述的无碱玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述成形工序中，使所述熔融玻璃流出至浮法锡槽内的熔融锡上而成形为带板状的所述玻璃带的同时，向所述浮法锡槽内供给包含氮和氢的还原性气体；
所述退火工序中，通过调节设于所述退火炉炉壁的开口部的内周与穿过所述开口部的辊的外周之间的间隙来使所述氧浓度在3.0体积％以下。
5.一种无碱玻璃基板的制造装置，它是权利要求1所述的无碱玻璃基板的制造装置，其特征在于，
具备将熔融玻璃成形为带板状的玻璃带的成形炉和
对成形而得的所述玻璃带进行退火的退火炉，
所述退火炉内750～500℃的所述玻璃带所处的气氛中的氧浓度在3.0体积％以下。
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