[发明专利]纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法

权利要求书

1.一种纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法，其特征在于包括如下步骤：先制备坯件，在坯件上所需施纹片釉的部位喷或涂刷一层中间层，然后进行素烧，素烧后在坯体上的图案、花纹或字样处进行贴纸或描胶，贴纸或描胶后用纹片釉进行施釉，经过图案修整后，进行釉烧，最后开片。

2.根据权利要求1所述的纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法，其特征在于所述中间层的材料不同于坯件材料。

3.根据权利要求1或2所述的纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法，其特征在于所述中间层材料的质量组成为：苏州土45～55％，滑石粉12～18％，长石18～22％，长兴白泥13～17％，泡花碱0.2～0.3％、纯碱0.4～0.6％。

4.根据权利要求3所述的纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法，其特征在于所述中间层材料的质量组成为：苏州土50％，滑石粉15％，长石20％，长兴白泥15％，泡花碱0.25％、纯碱0.5％。

5.根据权利要求1所述的纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法，其特征在于所述纹片釉包括基釉和颜料，其中基釉的质量组成为：长石64～68％，石英7～9％，苏州土8～12％，玻璃10～14％。

6.根据权利要求5所述的纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法，其特征在于所述纹片釉基釉的组成成份为：长石66％，石英8％，苏州土10％，玻璃12％。

7.根据权利要求1所述的纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法，其特征在于素烧的温度为800～1000℃。

8.根据权利要求1所述的纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法，其特征在于所述描胶中的胶为防水胶。

9.根据权利要求1所述的纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法，其特征在于所述施釉采用浸釉或喷釉的方法进行。

10.根据权利要求1所述的纹片釉陶瓷露胎图案陶瓷瓶制备方法，其特征在于所述釉烧的温度为1150～1200℃。