[发明专利]触摸屏基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明的示范性实施例涉及触摸屏基板以及制造该触摸屏基板的方法。更具体地，本发明的示范性实施例涉及改善制造工艺可靠性的触摸屏基板以及制造该触摸屏基板的方法。

背景技术

一般，液晶显示(LCD)面板包括具有用于驱动像素的开关元件的第一基板、面对第一基板的第二基板以及插设在第一基板与第二基板之间的液晶层。液晶层中的液晶分子根据施加到液晶层的电场来控制光透射，使得LCD面板显示图像。

LCD面板用作响应于外部压力而操作的触摸面板。触摸面板的第二基板包括光传感器和控制光传感器的开关元件。当外部压力施加到LCD面板上，从设置在LCD面板下面的背光产生的光被接触面板的外部物体反射，然后被提供到光传感器，由此光传感器吸收被反射的光以产生光电流。连接到LCD面板的中央处理单元基于光电流与在光入射到光传感器之前由光传感器产生的暗电流之间的差异来计算触摸位置。

当外部压力施加到LCD面板上时，反射光和不同于反射光的外部光可以一起被提供到光传感器。光传感器感测外部光以及反射光，使得中央处理单元无法准确计算触摸位置。为了解决这个问题，遮光图案形成在光传感器下面，遮光图案传输特定波长的必要光并防止外部光被提供到光传感器。

然而，当遮光图案不均匀地形成在第二基板上时，形成在遮光图案上的多个上部图案不能均匀地形成在第二基板上，因为遮光图案是首先形成在第二基板上的图案。因此，会降低上部图案的制造工艺的可靠性。

发明内容

本发明的示范性实施例提供了一种触摸屏基板以及制造该触摸屏基板的方法，该触摸屏基板能够改善遮光图案的制造工艺的可靠性并增强遮光图案与基板之间的粘合强度。

根据本发明的示范性实施例，触摸屏基板包括基底基板(base substrate)、遮光图案、第一感测元件和第一开关元件。遮光图案包括形成在基底基板上的无机层以及形成在无机层上的遮光层，该遮光层透射红外光并吸收可见光。第一感测元件形成在遮光图案上并感测红外光。第一开关元件电连接到第一感测元件。

根据实施例，无机层可以包括硅氮化物或硅氧化物。

根据实施例，触摸屏基板还可以包括残余层，该残余层形成在基底基板的除了无机层形成在其上的区域之外的整个区域上，并且残余层的厚度可以小于无机层的厚度。第一开关元件形成在残余层上。

根据实施例，遮光层可以包括非晶硅锗(a-SiGe)或非晶锗(a-Ge)。

根据实施例，触摸屏基板还可以包括偏压线、第一读取线、第一感测栅线和第二感测栅线。偏压线可以连接到第一感测元件。第一读取线可以连接到第一开关元件以将第一感测元件的第一栅信号输出到第一开关元件。第二感测栅线可以连接到第一感测元件并将第二栅信号施加到第一感测元件。

根据实施例，触摸屏基板还可以包括：第二感测元件，连接到偏压线并感测可见光；第二开关元件，连接到第二感测元件；第三感测栅线，连接到第二开关元件以将第三栅信号施加到第二开关元件；以及第二读取线，连接到第二开关元件以输出第二感测元件的可见光感测信号。

根据本发明的示范性实施例，提供了一种制造触摸屏基板的方法。在该方法中，遮光图案形成在基底基板上。遮光图案包括无机层以及形成在该无机层上的遮光层，该遮光层透射红外光并吸收可见光。第一感测元件形成在遮光图案上。第一开关元件形成在基底基板上，开关元件电连接到第一感测元件。

根据实施例，牺牲层可以形成在基底基板上，母遮光层(parent light blocking layer)可以形成在包括形成在基底基板上的牺牲层的基底基板上。母遮光层可以利用蚀刻气体被图案化以形成遮光层，牺牲层可以被图案化以形成无机层。

根据实施例，在形成无机层时，除了无机层之外的牺牲层可以被除去以暴露基底基板。

根据实施例，牺牲层可以被部分除去以形成残余层，该残余层的厚度小于牺牲层的初始厚度，第一开关元件可以形成在残余层上。

根据本发明的实施例，在形成阻挡可见光的遮光图案时可以防止在遮光图案的下部形成底切(undercut)，该可见光被提供到用于感测红外光的感测元件。此外，可以增强遮光图案与基底基板之间的粘合强度。因此，可以改善制造工艺的可靠性。

附图说明

通过参照附图详细描述本发明的示范性实施例，本发明的实施例将变得更加清楚，附图中：

图1是示出根据本发明示范性实施例的显示面板的截面图；

图2是示出图1中的触摸屏基板的平面图；

图3A是沿图2中的线I-I’截取的截面图；