[发明专利]触摸屏基板及其制造方法

权利要求书

1.一种触摸屏基板，包括：

基底基板；

遮光图案，包括形成在所述基底基板上的无机层和形成在所述无机层上的遮光层，所述遮光层透射红外光并吸收可见光；

第一感测元件，形成在所述遮光图案上并感测红外光；和

第一开关元件，电连接到所述第一感测元件。

2.如权利要求1所述的触摸屏基板，其中所述无机层包括硅氮化物或硅氧化物。

3.如权利要求1所述的触摸屏基板，还包括：

残余层，形成在所述基底基板的除了所述无机层形成在其上的区域之外的整个区域上，并且所述残余层的厚度小于所述无机层的厚度，并且

其中，所述第一开关元件形成在所述残余层上。

4.如权利要求1所述的触摸屏基板，其中所述无机层具有在至的范围内的厚度，所述遮光层具有在至的范围内的厚度。

5.如权利要求1所述的触摸屏基板，其中所述第一感测元件包括：

形成在所述遮光图案上的第一有源图案；

形成在所述第一有源图案上的第一感测源电极和第一感测漏电极，其中所述第一感测源电极和所述第一感测漏电极彼此间隔开；和

与所述第一有源图案交叠的感测栅电极。

6.如权利要求5所述的触摸屏基板，其中所述遮光层包括非晶硅锗或非晶锗。

7.如权利要求5所述的触摸屏基板，其中所述第一个感测栅电极通过部分地暴露所述遮光图案的接触孔接触所述遮光图案，所述接触孔穿过形成在所述第一有源图案上的第一绝缘层以及形成在所述第一感测源电极和所述第一感测漏电极上的第二绝缘层。

8.如权利要求5所述的触摸屏基板，其中所述第一开关元件包括：

第一开关源电极，电连接到所述第一感测漏电极。

第一开关漏电极，与所述第一开关源电极间隔开，

第二有源图案，与所述第一开关源电极和所述第一开关漏电极的每个交叠；和

第一开关栅电极，与所述第二有源图案交叠。

9.如权利要求1所述的触摸屏基板，还包括：

偏压线，连接到所述第一感测元件；

第一读取线，连接到所述第一开关元件；

第一感测栅线，连接到所述第一开关元件以将第一栅信号施加到所述第一开关元件；和

第二感测栅线，连接到所述第一感测元件以将第二栅信号施加到所述第一感测元件。

10.如权利要求9所述的触摸屏基板，还包括：

第二感测元件，连接到所述偏压线并感测可见光；

第二开关元件，连接到所述第二感测元件；

第三感测栅线，连接到所述第二开关元件以将第三栅信号施加到所述第二开关元件；和

第二读取线，连接到所述第二开关元件。

11.一种制造触摸屏基板的方法，该方法包括：

在基底基板上形成遮光图案，该遮光图案包括无机层和形成在所述无机层上的遮光层，该遮光层透射红外光并吸收可见光；

在所述遮光图案上形成第一感测元件；以及

形成电连接到所述第一感测元件的第一开关元件。

12.如权利要求11所述的方法，其中形成所述遮光图案包括：

在所述基底基板上形成牺牲层；

在具有所述牺牲层的所述基底基板上形成母遮光层；

利用蚀刻气体图案化所述母遮光层以形成所述遮光层；以及

图案化所述牺牲层以形成所述无机层。

13.如权利要求12所述的方法，其中形成所述无机层包括除去除了所述无机层之外的所述牺牲层以暴露所述基底基板。

14.如权利要求12所述的方法，其中形成所述无机层还包括：

部分地除去所述牺牲层以形成残余层，该残余层的厚度小于所述牺牲层的初始厚度，其中所述第一开关元件形成在所述残余层上。

15.如权利要求12所述的方法，其中所述母遮光层和所述牺牲层以利用形成在所述母遮光层上的光致抗蚀剂图案作为蚀刻停止层的干法蚀刻工艺形成。