[发明专利]薄膜形成装置系统及薄膜形成方法

权利要求书

1.一种薄膜形成装置系统，包括多个处理室，基板（16）依次经过所述处理室而被处理，由此在基板（16）上形成薄膜，该薄膜形成装置系统（1）的特征在于，包括：

加热室（3），其是所述处理室之一，配置有用于加热基板（16）的加热装置（20）以及使基板（16）与所述加热装置（20）相对移动的驱动装置；

膜形成室（4，6），其是所述处理室之一，配置有在加热了的基板（16）上形成薄膜的膜形成装置（26）；

控制装置（22），其用于操作所述驱动装置；

所述驱动装置被所述控制装置（22）操作为在不能从所述加热室（3）传送基板（16）时，使所述加热室（3）内的基板（16）与所述加热装置（20）继续相对移动。

2.如权利要求1所述的薄膜形成装置系统，其特征在于，所述驱动装置是基板传送装置（12），通过所述基板传送装置（12）的往返动作，使基板（16）与所述加热装置（20）相对移动。

3.一种薄膜形成装置系统，包括多个处理室，基板（19）依次经过所述处理室而被处理，由此在基板（19）上形成薄膜，该薄膜形成装置系统（1）的特征在于，包括：

膜形成室（4，6），其是所述处理室之一，配置有用于在基板（19）上形成薄膜的膜形成装置（26）；

冷却室（8），其是所述处理室之一，配置有用于对形成有薄膜的基板（19）进行冷却的冷却装置（21）以及使基板（19）与所述冷却装置（21）相对移动的驱动装置；

控制装置（24），其用于操作所述驱动装置；

所述驱动装置被所述控制装置（24）操作为在不能从所述冷却室（8）传送基板（19）时，使所述冷却室（8）内的基板（19）与所述冷却装置（21）继续相对移动。

4.一种薄膜形成方法，通过依次处理多个工序，在基板（16）上形成薄膜，该薄膜形成方法的特征在于，包括：

第一工序，其一边使基板（16）和与基板（16）对置的加热装置（20）相对移动一边加热基板（16）；

第二工序，其将加热了的基板（16）传送到薄膜形成位置；

第三工序，其在传送到所述薄膜形成位置的基板（16）上形成薄膜；

在不能传送所述第二工序中的基板（16）时，使所述第一工序中处理的基板（16）与所述加热装置（20）继续相对移动。

5.一种薄膜形成方法，通过依次处理多个工序，在基板（19）上形成薄膜，该薄膜形成方法的特征在于，包括：

第一工序，其将形成有薄膜的基板（19）传送到冷却位置；

第二工序，其一边使传送到所述冷却位置的基板（19）和与基板（19）对置的冷却装置（21）相对移动一边冷却基板（19）；

第三工序，其将冷却了的基板（19）从所述冷却位置传送；

在不能传送所述第三工序中的基板（19）时，使所述第二工序中处理的基板（19）与所述冷却装置（21）继续相对移动。