[发明专利]正型感光性树脂组合物、由该组合物形成的固化膜及具有固化膜的元件

说明书

技术领域

本发明涉及用于形成液晶显示元件、有机EL显示元件等的薄膜晶体管(TFT)基板用平坦化膜、触摸面板传感器元件等的保护具膜、绝缘膜、半导体元件的层间绝缘膜、固体摄像元件用平坦化膜、微透镜阵列图案、或光半导体元件等的光波导的芯材、包层材的感光性组合物，由该组合物形成的固化膜，以及具有该固化膜的元件。

背景技术

近年来，在液晶显示器、有机EL显示器等中，作为实现更加高精细、高分辨率的方法，已知提高显示装置的开口率的方法(参照专利文献1)。这是能够通过在TFT基板的上部设置透明的平坦化膜作为保护膜而使数据线与像素电极重叠，与现有技术相比提高开口率的方法。

作为这样的TFT基板用平坦化膜的材料，为了具有高耐热性、高透明性的特性并且确保TFT基板电极与ITO电极导通而需要形成50μm～数μm左右的孔图案(hole pattern)，一般可使用正型感光性材料。作为代表性材料，已知在丙烯酸系树脂中组合了重氮醌化合物的材料(参照专利文献2、3、4)。

此外，最近，在液晶显示器等中，采用了触摸面板，但为了提高该触摸面板的透明性、功能性，尝试以作为透明电极部件的ITO的高透明性和高导电性为目的，进行更高温度下的热处理、制膜。与此相伴，对透明电极部件的保护膜、绝缘膜也要求对高温处理的耐热性。然而，丙烯酸系树脂的耐热性、耐化学性不充分，存在由于基板的高温处理、透明电极等的高温制膜、各种蚀刻药液处理而使固化膜着色而透明性降低，或者由于高温制膜中的脱气而使电极的电导率降低这样的问题。

此外，这些丙烯酸系材料一般由于灵敏度低因而生产性低，要求更高灵敏度的材料。此外，伴随显示器的进步，孔图案等的开口尺寸也逐年微细化，也有时要求形成3μm以下的微细图案，但上述丙烯酸系材料的分辨率不充分。

另一方面，作为具有高耐热性、高透明性等特长的其它材料，已知聚硅氧烷，为了赋予正型的感光性而在其中组合了重氮醌化合物的材料(参照专利文献5、6)是公知的。该材料的透明性高，即使通过基板的高温处理，透明性也不会降低，可以获得高透明的固化膜。然而，关于该材料，灵敏度、分辨率、耐化学性不能说是充分的，因此强烈要求更高灵敏度、高分辨率、高耐化学性的正型感光性材料。此外，使用了具有重氮醌结构的聚硅氧烷的正型硅氧烷材料(专利文献7)是公知的。对于该材料，增加了用于将重氮醌并入聚合物结构中的工序，较复杂，而且具有透明性低这样的课题。此外，组合了聚合物中具有酚式羟基的聚硅氧烷和重氮萘醌化合物的正型硅氧烷材料(专利文献8)是公知的。对于该材料，增加了用于将酚并入聚合物结构中的工序，较复杂，而且具有透明性低这样的课题。此外，为2层抗蚀剂用途，在元件中不残存该硅氧烷固化膜。

因此，强烈要求使更高的透明性、灵敏度、分辨率、耐化学性全部得到满足的可以简便地制造的正型感光性材料。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平9－152625号公报(权利要求1)

专利文献2:日本特开2001－281853号公报(权利要求1)

专利文献3:日本特开平5－165214号公报(权利要求1)

专利文献4:日本特开2002－341521号公报(权利要求1)

专利文献5:日本特开2006－178436号公报(权利要求1)

专利文献6:日本特开2009－211033号公报(权利要求1)

专利文献7:日本特开2007－233125号公报

专利文献8:美国专利申请公开第2003/0211407号说明书

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是基于上述那样的情况而作出的，提供具有高耐热性、高透明性的特长，并且能够以高灵敏度形成高分辨率的图案，而且耐化学性优异的正型感光性组合物。此外，本发明的其它目的是提供由上述的正型感光性组合物形成的TFT基板用平坦化膜、层间绝缘膜、触摸面板用保护膜、绝缘膜、芯材、包层材等的固化膜，以及提供具有该固化膜的显示元件、半导体元件、固体摄像元件、光波导等的元件。

用于解决课题的方法