[发明专利]用于处理多孔基片上的样品的方法和系统

权利要求书

1.一种用于处理固定于多孔基片(24；48；70)的样品的系统，其包括：

压缩机，其限定一个或多个流体隔离区域(46；49)；

用于所述多孔基片的支撑件，其具有与所述压缩机的流体隔离区域中的一个或多个对应的开口；

致动器(12；54)，其使所述压缩机的至少一部分压靠所述多孔基片；

流体入口(26)，其至少在所述压缩机压靠所述多孔基片时通向所述流体隔离区域；和

流体出口(28)，其至少在所述压缩机压靠所述多孔基片时通过与所述压缩机的流体隔离区域对应的所述支撑件中的开口接收流体。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述压缩机包括顶部密封塞(14)和底部密封塞(18)，所述致动器使所述顶部密封塞(14)和所述底部密封塞(18)中的一个或二者压靠所述多孔基片。

3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述底部密封塞具有与所述支撑件中的开口流体连通的开口和与所述流体出口流体连通的开口。

4.如权利要求2或3所述的系统，其特征在于，所述顶部密封塞具有与所述流体入口流体连通的开口。

5.如权利要求1至4中的任一项所述的系统，其特征在于，还包括容器，所述容器包括具有多个井的板。

6.如权利要求1至5中的任一项所述的系统，其特征在于，还包括容器，所述容器包括一个或多个管瓶(68)。

7.如权利要求1至6中的任一项所述的系统，其特征在于，还包括分析系统。

8.如权利要求7所述的系统，其特征在于，所述分析系统包括液相色谱系统。

9.如权利要求7或8所述的系统，其特征在于，所述分析系统包括质谱分析系统。

10.一种用于处理固定于多孔基片(24；48；70)的样品的系统，其包括：

多个样品处理子系统，所述多个样品处理子系统中的每一个包括：

    压缩机，其限定一个或多个流体隔离区域(46；49)；

    用于所述多孔基片的支撑件，其具有与所述压缩机的流体隔离区域对应的开口；

    致动器(12；54)，其使所述压缩机的至少一部分压靠所述多孔基片；

    流体入口(26)，其至少在所述压缩机压靠所述多孔基片时通向所述流体隔离区域；和

    流体出口(28)，其至少在所述压缩机压靠所述多孔基片时通过与所述压缩机的流体隔离区域对应的所述支撑件中的开口接收流体；

歧管(58；82)，其与所述样品处理子系统的流体入口流体连通；

盒(94)，其用于容纳多个多孔基片；

容器往复移送装置子系统，其用于将一个或多个流体容器运输到所述样品处理子系统；

自动化组件，其用于将所述多孔基片从所述盒运输到所述样品处理子系统；和

控制器(102)，其协调所述样品处理子系统和所述自动化组件。

11.如权利要求10所述的系统，其特征在于，还包括用于对所述多孔基片上的样品成像的成像子系统。

12.如权利要求10或11所述的系统，其特征在于，所述自动化组件包括机器人子组件(98)和引导件，所述机器人子组件沿着所述引导件在所述盒和所述样品处理系统之间移动。

13.如权利要求12所述的系统，其特征在于，所述自动化组件还将所述多孔基片运输到所述成像子系统。

14.一种用于处理固定到位于支撑件上的多孔基片(24；48；70)的样品的方法，其包括：

在所述多孔基片上产生压缩密封部(42)以形成隔离区(46；49)，所述样品的部分因此隔离在所述隔离区(46；49)内；

将流体施加于隔离在所述隔离区中的样品，其中，所述流体在大致垂直于样品表面的方向上移动穿过所述样品；

在所述流体的至少一部分施加于所述隔离区之后收集所述流体的至少一部分；和

分析收集的流体和所述隔离区中的样品的部分中的一个或二者。

15.如权利要求14所述的方法，其特征在于，还包括清扫与所述隔离区域接触的剩余流体。