[发明专利]臭氧气体供给系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种臭氧气体供给系统，该臭氧气体供给系统可提高所供给的原料气体的品质，并可提高所输出的臭氧气体的品质，且可对气体流量、浓度进行控制，以将稳定的臭氧气体供给至多个臭氧处理装置。

背景技术

在将臭氧气体供给至由多个臭氧处理装置构成的多臭氧处理装置的情况下，一般可考虑构筑如下的臭氧气体供给系统，对于多个臭氧处理装置，分别将纯度为99.99％且露点为-70℃以下的高纯度氧气等原料气体供给至臭氧发生器，并设置包括臭氧电源、流量控制器(MFC)等在内的多个臭氧发生机构(元件)，从而对与各臭氧发生机构单独对应的臭氧处理装置供给臭氧气体。

即，臭氧气体供给系统设置有与多臭氧处理装置的系统数相应数量的原料气体配管系统、输出气体配管系统等，其中，在上述原料气体配管系统中，将纯度为99.99％且露点为-70℃以下的高纯度氧气等原料气体供给至臭氧发生器，并通过臭氧电源、对臭氧气体或原料气体流量进行控制的MFC等流量调节元件将原料气体供给至臭氧发生器，在上述输出气体配管系统中，具有对臭氧发生器内的气体气氛压力进行控制的自动压力控制器(APC)等压力调节元件，并且具有对从臭氧发生器输出的臭氧气体进行检测的臭氧浓度检测器、臭氧流量计。

在将臭氧气体供给至由多个臭氧处理装置构成的多臭氧处理装置的情况下，一般可考虑构筑如下的臭氧气体供给系统，对于多个臭氧处理装置，分别设置包括臭氧发生器、臭氧电源、流量控制器(MFC)等在内的多个臭氧发生机构，从而对与各臭氧发生机构单独对应的臭氧处理装置供给臭氧气体。

即，臭氧气体供给系统设置有与多臭氧处理装置的系统数相应数量的原料气体配管系统、输出气体配管系统等，其中，在上述原料气体配管系统中，通过臭氧发生器、臭氧电源、对原料气体流量进行控制的MFC等将原料气体供给至臭氧发生器，在上述输出气体配管系统中，具有对从臭氧发生器输出的臭氧气体进行检测的臭氧浓度检测器、臭氧流量计。

为了构筑这种与多臭氧处理装置相对应的臭氧发生系统，需要非常大的空间，此外，在构筑对多臭氧处理装置进行统一控制来供给臭氧气体的系统的情况下，会变为更大的系统结构，因而，具有成本方面、配置空间等的问题，在实用上存在很多不利之处。

因此，以往，作为对多臭氧处理装置供给臭氧的臭氧供给方式，例如可如专利文献1所公开的那样采用如下方式的臭氧气体供给系统，在该臭氧气体供给系统中，通过增大单式臭氧发生器的容量，并将输出臭氧气体的配管系统分成多个配管，从而将规定流量、浓度的臭氧气体逐步输出至多臭氧处理装置中的各臭氧处理装置中。

图24是表示从专利文献1所公开的内容想到的现有的臭氧气体供给系统70的内部结构的框图。

在图24中，具有原料气体配管系统和输出气体配管系统，其中，在上述原料气体配管系统中，通过一个臭氧发生器71、臭氧电源72、对原料气体流量进行控制的流量控制器(MFC)73、对发生器的压力进行监视的压力计62将原料气体供给至臭氧发生器71，在上述输出气体配管系统中，将位于具有阀开关61、臭氧浓度计75、臭氧流量计67的输出配管之后的输出气体配管系统分成多个配管，其中，上述阀开关61根据臭氧发生器71的压力变动对阀的开闭进行调节。此外，在臭氧气体供给系统70中，在分出的输出气体配管系统中分别设置单个臭氧气体流量控制器(MFC)68-1～68-n，从而将臭氧气体独立供给至与单个MFC68-1～68-n对应设置的多个臭氧处理装置12-1～12-n。超过利用各单个MFC68-1～68-n供给的臭氧气体的量的臭氧气体会在流量排出单元69中排出。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特表2009-500855号公报(图2、图3、图5)

现有的对多臭氧处理装置供给臭氧的臭氧气体供给系统是如上所述构成的，将原料气体供给至臭氧发生器，并从一个臭氧发生器71输出臭氧气体，且对输出的配管系统分配配管。因此，存在以下技术问题：臭氧气体流量及臭氧浓度只能以恒定的状态供给至多臭氧处理装置(臭氧处理装置12-1～12-n)，对各臭氧处理装置供给臭氧的臭氧供给条件仅为一个条件且共用，无法使多个臭氧处理装置分别独立地对臭氧气体流量及浓度进行可变控制。

此外，由于从一个臭氧发生器向多臭氧处理装置供给臭氧气体，因此，存在一旦臭氧发生器出现故障，就要停止对作为供给对象的所有臭氧处理装置供给臭氧气体等，臭氧气体供给的可靠性低之类的问题。

发明内容

发明所要解决的技术问题