[发明专利]阴图制版平版印版前体

权利要求书

1.阴图制版平版印版前体，其包含底材，且在底材上具有阴图制版型可成像层作为最外层，所述可成像层包含：

a)聚合物粘合剂，

b)可自由基聚合的组分，

c)一经暴露于成像辐射提供自由基的引发剂组合物，以及

d)由以下结构(I)或结构(II)表示的氧清除剂和保存期稳定剂：

HOOC-Ar-N(R₁)(R₂)

(I)

HOOC-R₅-N(R₆)(R₇)

(II)

其中Ar为亚苯基或亚萘基，R₁和R₂独立地为烷基、烯基、炔基、苯基、苯氧基、-R₅OH、-CH₂-C(＝O)-R₃或-CH₂-C(＝O)O-R₄基团，R₃为氢或烷基或苯基，R₄为烷基或苯基，R₅为亚烷基，R₆和R₇独立地为氢或烷基、-R₅OH、-R₅C(＝O)-R₈或-R₅C(＝O)OR₉基团，R₈为氢或烷基，R₉为烷基，

条件是氧清除剂具有仅仅一个羧基。

2.如权利要求1所述的平版印版前体，其中Ar为亚苯基，R₁和R₂独立地为含有1-4个碳原子的未取代烷基或羟基烷基，R₅为含有1-4个碳原子的亚烷基，R₆和R₇独立地为氢或含有1-4个碳原子的烷基、或者-R₅OH基团，其中R₅为含有1-4个碳原子的亚烷基。

3.如权利要求1或2所述的平版印版前体，其中R₁和R₂独立地为含有1-3个碳原子的烷基，R₅为含有1个或2个碳原子的亚烷基，R₆和R₇独立地为-R₅OH基团，其中R₅为含有1个或2个碳原子的亚烷基。

4.如权利要求1-3中任一项所述的平版印版前体，其中所述氧清除剂是4-(N，N-二甲基氨基)苯甲酸、4-(N，N-二乙基氨基)苯甲酸、4-[N，N-二(2-羟基乙基)氨基]苯甲酸、N，N-二羟基乙基甘氨酸、N，N-二羟基甲基甘氨酸、或其混合物。

5.如权利要求1-4中任一项所述的平版印版前体，其中所述氧清除剂的存在量是0.1-20重量％。

6.如权利要求1-5中任一项所述的平版印版前体，其中所述聚合物粘合剂以平均直径为50nm-1μm的离散颗粒存在。

7.如权利要求1-6中任一项所述的平版印版前体，其中所述引发剂组合物包含鎓盐和吸收红外辐射的化合物。

8.如权利要求1-7中任一项所述的平版印版前体，其中所述引发剂组合物还包含四芳基硼酸盐。

9.如权利要求8所述的平版印版前体，其中所述四芳基硼酸盐和鎓盐形成相同的盐。

10.如权利要求1-9中任一项所述的平版印版前体，其中所述支撑物是含铝支撑物。

11.提供平版印版的方法，其包括：

A)将权利要求1-10中任一项所述的平版印版前体成像曝光，以提供曝光区域和未曝光区域；以及

B)不存在烘烤步骤的情况下，使成像曝光的前体显影，以除去未曝光区域。

12.如权利要求11所述的方法，其中使用在750-1250nm处提供成像辐射的激光器将平版印版前体成像曝光。

13.如权利要求11或12所述的方法，其中使用pH为至少6且至多14的显影液进行显影。

14.如权利要求11-13中任一项所述的方法，其中使用pH为至少7且至多12的显影液进行显影。

15.从权利要求11-14中任一项所述的方法获得的平版印版。