[发明专利]光固化性转印片、及使用其的凹凸图案的形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及能有利地用于制造电子器件、光学部件、存储介质等的光固化性转印片、以及使用其的凹凸图案的形成方法，特别涉及微细加工技术的纳米压印。

背景技术

使用光或电子射线的微细加工技术的发展非常显著，用光实现了100nm的加工，用电子射线实现了10nm的加工。然而，由于这些微细加工装置昂贵，因此需要更廉价的加工技术。根据这种目的，正在逐步确立通过纳米压印技术(nano-imprint technology)来在硅基板等上形成所需的电路图案等的方法。与以往的压制技术(press technology)相比，纳米压印技术是用于实现更微小的结构的微细加工技术。该技术本身没有分辨率的界限，分辨率是由模具(即mold)的制作精度来决定的。因此，只要能制作模具，就能够利用与现有的光刻法相比更容易且廉价得多的装置来形成极微细结构。

纳米压印技术根据被转印的材料大致分为两类。一类是将被转印的材料加热，通过模具(mold)来使之塑性变形，然后冷却来形成图案的热纳米压印技术。另一类是在室温下在基板上涂布液态的光固化性树脂，然后将透光性的模具按压在树脂上并照射光，使基板上的树脂固化，由此形成图案的光纳米压印技术。尤其是光纳米压印技术能够在室温下形成图案，因此不容易因由热导致的基板、模具之间的线性膨胀系数差而发生变形，能够形成高精度的图案，其作为半导体等的光刻技术的替代技术而受到关注。

虽然通过纳米压印可以廉价地进行图案成形，但树脂容易附着在作为母压模(mother stamper)的模具(mold)上，在附着有树脂时，极难维修该模具。模具(mold)非常昂贵，因此从制造整体来看在很多情况下称不上廉价。

专利文献1中公开了基于两道工序的压印法。即，在第一工序中，在具有进行了微米级或纳米级的微细凹凸的图案化的表面的模板上，以表面与表面正对接触的方式放置热塑性聚合物等塑性聚合物箔(plasticity polymer foil)，进行压印处理，从而在聚合物箔的表面形成模板表面的图案的反转图案。接着，在第二工序中，对所得聚合物压模(中间压模)实施与上述同样的处理，在另一塑性聚合物箔的表面形成第二反转拷贝(与模板相同的图案)。

该方法中，产品使用中间压模来成型，因此不会使母压模(模板)产生严重损伤。然而，由于在中间压模的制作中使用热塑性聚合物因而可以使用广范围的各种各样的聚合物，但反之，存在如下的不利情况：成型需要加热、冷却这样的大量能量，而且成型时间需要为1分钟以上的长时间。因此，在连续制造时难以缩短生产节拍时间(tact time，处理所需的时间)。

另外，专利文献1中记载了在中间压模制作时组合使用光固化性树脂的例子，但由于光固化性树脂是液态物，因此作业性差，另外固化收缩、厚度不均匀等也大，因而无法实现包括上述缩短生产节拍时间等在内的生产率的提高。进而，还存在如下问题：与母压模的剥离性低，以及与从中间压模转印凹凸图案得到的产品即固化了的光固化性树脂的剥离性低。

另一方面，专利文献2中公开了一种使用通过加压能够变形的由光固化性组合物形成的光固化性转印片来制作中间压模的方法。由此对作业性、固化收缩等进行改善。另外，在专利文献2中，光固化性组合物通过含有作为润滑剂的含磷原子化合物，使从母压模的剥离性等得到改善。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-165812号公报

专利文献2：日本特开2007-291339号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，使用专利文献2的光固化性转印片进行上述的两道工序的压印法的情况下，从第1工序的母压模通过压印处理而获得中间压模的工序中的成型性、脱模性良好，但在第2工序的从中间压模向光固化性树脂(特别是固化性良好的自由基固化型的液态紫外线固化树脂)转印的过程中，存在光固化性树脂附着在中间压模上而导致精确的凹凸图案的成型不充分的情况。

因此，本发明的目的在于，提供一种光固化性转印片，其是能够有利地用于纳米压印工艺法中中间压模的制作中的光固化性转印片，其与中间压模的制作时使用的具有微细凹凸图案的模具的脱模性、及与从中间压模转印了凹凸图案的光固化性树脂的脱模性良好，并且凹凸图案的转印性优异。

另外，本发明的目的还在于，提供使用所述光固化性转印片来形成微细的凹凸图案的方法。

用于解决问题的方案