[发明专利]光固化性转印片、及使用其的凹凸图案的形成方法有效
| 申请号: | 201080041486.3 | 申请日: | 2010-09-16 |
| 公开(公告)号: | CN102498544A | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
| 发明(设计)人: | 稻宫隆人;桥元贤志;甲斐田荣三 | 申请(专利权)人: | 株式会社普利司通 |
| 主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;B29C33/38;B29C59/02;B32B3/26;B32B27/30;B29K33/04;B32B3/30 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光固化 性转印片 使用 凹凸 图案 形成 方法 | ||
1.一种光固化性转印片,其特征在于,具有通过加压能够变形、由包含聚合物和具有光聚合性官能团的反应性稀释剂的光固化性组合物形成的光固化性转印层,
所述聚合物由包含具有脂环基的(甲基)丙烯酸酯重复单元的丙烯酸树脂形成。
2.根据权利要求1所述的光固化性转印片,其中,所述具有脂环基的(甲基)丙烯酸酯重复单元是具有异冰片基及/或环己基的(甲基)丙烯酸酯重复单元。
3.根据权利要求1或2所述的光固化性转印片,其中,所述具有脂环基的(甲基)丙烯酸酯重复单元的含有率相对于所述光固化性组合物的干燥质量为32~44质量%。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的光固化性转印片,其中,所述反应性稀释剂包含具有脂环基的单体。
5.根据权利要求4所述的光固化性转印片,其中,所述具有脂环基的单体是具有二羟甲基三环癸烷基或异冰片基的单体。
6.一种凹凸图案的形成方法,其包含下述工序:
(1)将表面具有微细凹凸图案的模具的表面载置并按压在权利要求1~5中任一项所述的光固化性转印片的转印层上,使得该模具的凹凸图案面与该转印层的表面接触,形成转印层的表面沿凹凸图案表面密合的层压体的工序;
(2)通过照射紫外线使具有模具的层压体的转印层固化的工序;以及
(3)通过将模具除去,在该转印层的表面形成微细的反转凹凸图案的工序。
7.一种凹凸图案的形成方法,其包含下述工序:
(4)将利用权利要求6所述的方法而形成有所述模具的凹凸图案的反转凹凸图案的光固化性转印片(中间压模)的微细反转凹凸图案的表面载置并按压在形成于基板上的由光固化性树脂组合物形成的光固化性树脂层上,使得该中间压模的反转凹凸图案面与光固化性树脂层的表面接触,形成光固化性树脂层的表面沿反转凹凸图案表面密合的层压体的工序;
(5)通过照射紫外线使具有中间压模的层压体的光固化性树脂层固化的工序;以及
(6)通过将中间压模除去,在光固化性树脂层的表面形成和所述模具相同的微细凹凸图案的工序。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述光固化性树脂组合物为液态。
9.根据权利要求6~8中任一项所述的方法,其中,所述模具为压模。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社普利司通,未经株式会社普利司通许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080041486.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





