[发明专利]涡旋式流体设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种涡旋式流体设备。

背景技术

这种涡旋式流体设备具有涡旋单元，涡旋单元由在各基板的各基面上分别相对地立设有螺旋状的卷绕部的定涡盘和动涡盘构成，通过使动涡盘绕定涡盘的轴心进行公转回旋运动，从而在定涡盘与动涡盘的各卷绕部之间形成作为流体设备的工作流体的制冷剂的工作室。在使用上述流体设备作为膨胀器的情况下，在定涡盘的基板的中央部贯穿地形成有吸入孔，并使制冷剂从涡旋单元外的制冷剂回路经由吸入孔吸入至作为制冷剂的工作室的膨胀室。

此外，在专利文献1中公开了以下技术：为了矫正在制冷剂膨胀开始时工作室之间的不平衡而使涡旋单元进行高效率的膨胀工作，在回旋涡盘(动涡盘)的齿部(卷绕部)的中央前端部形成凹部，当导入口(吸入孔)在第一工作室中开口时，凹部使第二工作室与导入口连通，当第一工作室与导入口被阻断时，在同一时刻凹部与第二工作室阻断。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2006-242133号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

然而，在采用上述现有技术的情况下，由于在动涡盘的卷绕部的中央前端部形成凹部，因此，会使该卷绕部的强度降低，从而可能因动涡盘的公转回旋运动而破损。

另外，在采用上述现有技术的情况下，由于随着动涡盘的公转回旋运动，吸入孔的至少一部分会被该卷绕部的中央前端部封闭，因此，存在进入涡旋单元的制冷剂量减少、制冷剂在涡旋单元中的膨胀效率降低这样的问题，从而在提高制冷剂在涡旋单元中的工作效率上仍存在技术问题。

本发明鉴于上述技术问题而作，其目的在于提供一种能在确保涡旋单元的可靠性的同时提高其性能的涡旋式流体设备。

解决技术问题所采用的技术方案

为实现上述目的，技术方案一所记载的涡旋式流体设备的特征是，包括：涡旋单元，该涡旋单元由在各基板的各基面上分别相对地立设有螺旋状的卷绕部的定涡盘和动涡盘构成，通过使动涡盘绕定涡盘的轴心进行公转回旋运动，队而在定涡盘及动涡盘的各卷绕部之间形成工作流体的工作室；连通孔，该连通孔是通过贯穿定涡盘的基板的中央部而形成的，并使工作室与涡旋单元外连通；第一工作室，该第一工作室是由定涡盘的卷绕部的中央前端部的外壁和动涡盘的卷绕部的中央前端部的内壁划分而成的；第二工作室，该第二工作室是由定涡盘的卷绕部的中央前端部的内壁和动涡盘的卷绕部的中央前端部的外壁划分而成的；以及连通路，随着动涡盘的公转回旋运动，在连通孔的至少一部分被动涡盘的卷绕部的中央前端部封闭时，上述连通路使第一工作室及第二工作室与连通孔连通，在定涡盘及动涡盘的卷绕部的中央前端部彼此抵接时，上述连通路阻断第一工作室及第二工作室与连通孔之间的连通。

另外，技术方案二所记载的发明是在技术方案一的基础上，其特征是，连通路凹设在定涡盘的基面上的到达连通孔之前的范围内的连通槽，连通槽形成在以下范围内：随着动涡盘的公转回旋运动，在连通孔的至少一部分被动涡盘的卷绕部的中央前端部封闭时，连通槽的至少一部分在第一工作室和第二工作室中开口，在定涡盘及动涡盘的卷绕部的中央前端部彼此抵接时，连通槽全部被动涡盘的卷绕部遮盖。

此外，技术方案三所记载的发明是在技术方案二的基础上，其特征是，当连通孔的至少一部分被动涡盘的卷绕部的中央前端部封闭时，连通槽使第一工作室与第二工作室连通。

除此之外，技术方案四所记载的发明是在技术方案二的基础上，其特征是，当连通孔的至少一部分被动涡盘的卷绕部的中央前端部封闭时，连通槽由使第一工作室与连通孔连通的第一连通槽和使第二工作室与连通孔连通的第二连通槽构成。

另外，技术方案五所记载的发明是在技术方案二的基础上，其特征是，连通槽形成在以下范围内：在连通孔的至少一部分被动涡盘的卷绕部的中央前端部封闭时，分别对应于第一工作室和第二工作室的连通槽的开口面积大致相同。

此外，技术方案六所记载的发明是在技术方案三至技术方案五中任一技术方案的基础上，其特征是，涡旋单元形成为对称涡旋结构。

除此之外，技术方案七所记载的发明是在技术方案二的基础上，其特征是，连通槽的槽宽比动涡盘的卷绕部的中央前端部的宽度小。

另外，技术方案八所记载的发明是在技术方案一的基础上，其特征在于，涡旋式流体设备是将工作室作为膨胀室的膨胀器。

发明效果