[发明专利]涡旋式流体设备

权利要求书

1.一种涡旋式流体设备，其特征在于，包括：

涡旋单元，该涡旋单元由在各基板的各基面上分别相对地立设有螺旋状的卷绕部的定涡盘及动涡盘构成，通过使所述动涡盘绕所述定涡盘的轴心进行公转回旋运动，从而在所述定涡盘及所述动涡盘的所述各卷绕部之间形成工作流体的工作室；

连通孔，该连通孔形成为贯穿所述定涡盘的所述基板的中央部，并使所述工作室与所述涡旋单元外连通；

第一工作室，该第一工作室是由所述定涡盘的所述卷绕部的中央前端部的外壁和所述动涡盘的所述卷绕部的中央前端部的内壁划分而成的；

第二工作室，该第二工作室是由所述定涡盘的所述卷绕部的所述中央前端部的内壁和所述动涡盘的所述卷绕部的所述中央前端部的外壁划分而成的；以及

连通路，随着所述动涡盘的公转回旋运动，在所述连通孔的至少一部分被所述动涡盘的所述卷绕部的所述中央前端部封闭时，所述连通路使所述第一工作室及所述第二工作室与所述连通孔连通，在所述定涡盘及所述动涡盘的所述卷绕部的所述中央前端部彼此抵接时，所述连通路阻断所述第一工作室及所述第二工作室与所述连通孔之间的连通。

2.如权利要求1所述的涡旋式流体设备，其特征在于，

所述连通路是凹设在所述动涡盘的所述基面上的到达所述连通孔之前的范围内的连通槽，

所述连通槽形成在以下范围内：随着所述动涡盘的公转回旋运动，在所述连通孔的至少一部分被所述动涡盘的所述卷绕部的所述中央前端部阻断时，所述连通槽的至少一部分在所述第一工作室和所述第二工作室中开口，在所述定涡盘及所述动涡盘的所述卷绕部的所述中央前端部彼此抵接时，所述连通槽全部被所述动涡盘的所述卷绕部遮盖。

3.如权利要求2所述的涡旋式流体设备，其特征在于，

当所述连通孔的至少一部分被所述动涡盘的所述卷绕部的所述中央前端部封闭时，所述连通槽使所述第一工作室与所述第二工作室连通。

4.如权利要求2所述的涡旋式流体设备，其特征在于，

当所述连通孔的至少一部分被所述动涡盘的所述卷绕部的所述中央前端部封闭时，所述连通槽由使所述第一工作室与所述连通孔连通的第一连通槽和使所述第二工作室与所述连通孔连通的第二连通槽构成。

5.如权利要求2所述的涡旋式流体设备，其特征在于，

所述连通槽形成在以下范围内：当所述连通孔的至少一部分被所述动涡盘的所述卷绕部的所述中央前端部封闭时，分别对应于所述第一工作室及第二工作室的所述连通槽的开口面积大致相同。

6.如权利要求3至5中任一项所述的涡旋式流体设备，其特征在于，

所述涡旋单元形成为对称涡旋结构。

7.如权利要求2所述的涡旋式流体设备，其特征在于，

所述连通槽的槽宽比所述动涡盘的所述卷绕部的所述中央前端部的宽度小。

8.如权利要求1所述的涡旋式流体设备，其特征在于，

所述涡旋式流体设备是将所述工作室作为膨胀室的膨胀器。