[发明专利]触摸检测

说明书

技术领域

该公开内容涉及触摸检测。

背景技术

触敏系统通常涉及检测和响应在表面上的多个同时接触点的系统。典型地，触敏系统以允许使用者使用与触屏接触的一个或多个输入端来查看和操作对象的触屏显示器的形式被结合到电子器件内。其中已经使用触敏系统的电子器件的例子包括平板电脑、个人数字助理(PDA)、以及手机等。各种能使触敏系统工作的方法是可利用的。例如，一些触摸系统通过检测热、压力、电容或光强来识别表面接触。

发明内容

该说明书描述了与触摸检测有关的技术。大体上，在该说明书中描述主题的一个方面可在一种触屏装置实现，该触屏装置包括：辐射源；挠性波导，被配置为接收由辐射源发出的辐射并且致使至少一些接收到的辐射经历在挠性波导内的全内反射；阻挠层，相对于挠性波导设置以便当挠性波导被物理变形时能使阻挠层体接触挠性波导；以及成像传感器，被配置为检测至少一些从挠性波导逃逸的辐射。阻挠层被配置为当挠性波导被物理变形以接触所述阻挠层，以使在挠性波导内经历全内反射的一些接收到的辐射在接触点从挠性波导逃逸时致使在阻挠层和挠性波导之间的接触点处阻挠所接收到的辐射在挠性波导内的全内反射。

这及其他实施方式可选择性地包括下列特征的一个或多个。在一些实施方式中，阻挠层可包括一结构，该结构配置为控制从挠性波导朝向图像传感器逃逸的辐射的至少一部分。例如，该结构可包括集成到所述阻挠层的光漫射表面和/或体漫射结构。在另一个例子中，该结构可包括对应于光栅结构的衍射图形。在一些情况下，衍射图形可通过利用转印到该结构上的干涉图案来形成，其中一系列表示转印的干涉图案的最小或最大亮度的条纹对应于所述光栅结构。该光栅结构可包括一闪耀光栅外形、方波外形、正弦曲线的外形、和/或半正弦曲线的外形。方波外形可包括1位二进制(1-bit binary)的衍射光栅外形。替代地，或另外，该方波外形可包括多位调制的二进制外形(binary profile)。

在另一个例子中，该结构可包括非周期性的衍射图形，其中一系列表示转印到该结构的干涉图案的最小或最小亮度的条纹被布置成非周期性的图形。替代地，或另外，干涉图案的边缘对应于与辐射入射的阻挠层的表面基本上平行的折射率变化平面。

在一些情况下，该结构位于阻挠层的最邻近于挠性波导的表面上和/或位于阻挠层的距离该挠性波导最远的表面上。该结构可被配置为通过衍射控制从挠性波导朝向图像传感器逃逸的辐射的至少一部分。该结构可被配置为通过折射控制从挠性波导朝向图像传感器逃逸的辐射的至少一部分。在一例子中，该结构可包括一系列棱镜。

在一些情况下，该结构被分成几个子结构，每个子结构被配置为控制从挠性波导朝向成像传感器逃逸的辐射。

在一些实施例中，该装置包括一挠性阻挠层，该挠性阻挠层相对于挠性波导设置，以便当挠性阻挠层物理变形时能使挠性阻挠层接触挠性波导。该挠性阻挠层可被配置为当挠性阻挠层物理变形以接触挠性波导以使在挠性波导内经历全内反射的一些接收到的辐射在挠性阻挠层和挠性波导之间的接触点处从挠性波导逃逸时引起在挠性阻挠层和挠性波导之间的接触点处阻挠在挠性波导内接收到的辐射的全内反射。在一些实施例中，所述阻挠层被设置在挠性波导层的第一侧上且所述挠性阻挠层被设置在所述挠性波导层的相对的第二侧上。所述挠性阻挠层可包括一结构，该结构被配置为控制从挠性波导朝向成像传感器逃逸的至少一部分辐射。

在一些实施例中，触屏装置包括邻近于所述阻挠层的显示装置。该显示装置可包括液晶装置，发光二极管装置或有机发光二极管装置。所述阻挠层可被固定到所述显示装置上。所述阻挠层可与所述显示装置光学接触。在一些情况下，所述触屏装置包括耦合层，其中该耦合层与显示装置的距离所述阻挠层最远的一侧接触并且其中所述耦合层被配置为耦合来自显示装置的辐射。该显示装置可包括成像传感器。该成像传感器可被嵌入到显示装置中。在一些实施例中，该触屏装置还包括屏幕投影层，其中该屏幕投影层包括一结构，该结构被配置为使从显示装置发出的至少一部分光漫射。在一些实施例中，所述触屏装置包括屏幕投影层和配置为使来自显示装置的至少一部分光漫射到屏幕投影层上的一结构。

该显示装置可包括一结构，该结构配置为控制从挠性波导朝向图像传感器逃逸的至少一部分辐射。该结构可包括显示装置的偏光器或基底。该结构可包括光漫射结构。该光漫射结构可包括表面漫射层或体漫射结构。