[发明专利]湿式处理装置以及湿式处理方法

权利要求书

1.一种湿式处理装置，是一种将被处理基板保持在工作台上，并使上述工作台旋转从而进行湿式处理的湿式处理装置，其特征在于，

上述被处理基板构成为：通过其中心从上述工作台的旋转中心偏离，并且至少使用向该被处理基板的背面排放气体的伯努利吸盘将其保持在上述工作台上，从而上述被处理基板随着上述工作台的旋转而偏心旋转，

在上述工作台内的旋转轴部分设置有上述伯努利吸盘所使用的第一气体供给路，在上述工作台还设置有与上述第一气体供给路连通，并用于向上述被处理基板的背面导入气体的第二气体供给路，该第二气体供给路相对于上述被处理基板的中心轴呈轴对称。

2.根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征在于，

上述伯努利吸盘在上述工作台的上表面的下述区域具有凹陷部分，即：与包含处于保持状态的上述被处理基板的背面的中央部的区域对应的区域。

3.根据权利要求2所述的湿式处理装置，其特征在于，

上述凹陷部分由设置在上述工作台的上表面的环状突起形成，该环状突起具有下述那样的剖面形状，即：处于保持状态的上述被处理基板与该环状突起的上表面之间的距离随着从上述被处理基板的内侧向外侧而逐渐变小。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的湿式处理装置，其特征在于，

上述第一气体供给路形成为相对于上述工作台的中心呈轴对称。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的湿式处理装置，其特征在于，

在上述工作台的上表面中的、与上述被处理基板的周边对应的位置上设置有多个固定销，通过这些多个固定销，上述被处理基板被保持在上述工作台上的规定的位置上。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的湿式处理装置，其特征在于，

上述工作台的旋转中心与上述被处理基板的中心之间的距离A和上述被处理基板的直径B在C＝0.0375±0.0045时满足A＝C×B的关系。

7.一种湿式处理方法，其特征在于，

通过设置在旋转工作台的旋转轴部分的第一气体供给路，将伯努利吸盘用的气体导入用于保持被处理基板的上述旋转工作台内的中央部，

使导入的气体与上述第一气体供给路连通，且通过相对于上述被处理基板的中心轴呈轴对地设置的第二气体供给路后，向上述被处理基板的背面侧供给，从而保持上述被处理基板，

通过使上述旋转工作台旋转，使上述被处理基板以其中心从上述旋转工作台的旋转中心偏离的状态进行偏心旋转，

在上述偏心旋转的状态下，进行上述被处理基板的湿式处理。

8.根据权利要求7所述的湿式处理方法，其特征在于，

在上述工作台的上表面、且与包含处于保持状态的上述被处理基板的背面的中央部的区域对应的区域形成环状突起，并使该环状突起的剖面形状成为：处于保持状态的上述被处理基板与该环状突起的上表面之间的距离随着从上述被处理基板的内侧向外侧而逐渐变小，从而使向上述被处理基板的背面侧供给的气体的流速在上述被处理基板的外侧比在上述被处理基板的内侧大。