[发明专利]用于同时检验具有不同间距的多个阵列区域的方法和装置有效
| 申请号: | 201080028830.5 | 申请日: | 2010-06-18 |
| 公开(公告)号: | CN102803939A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
| 发明(设计)人: | H·陈;J·Z·林 | 申请(专利权)人: | 克拉-坦科股份有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/956 | 分类号: | G01N21/956;G03F1/84 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张欣 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 同时 检验 具有 不同 间距 阵列 区域 方法 装置 | ||
1.用于在所制造的衬底上的多个阵列区域中检测缺陷的检验装置,所述装置包括:
成像装置,被设置为照明所述衬底的区域并检测来自所述区域的图像数据,其中所述区域包括多个阵列区域的集合;以及
系统控制器,包括处理器、存储器和位于所述存储器中的计算机可读代码,所述计算机可读代码被设置为:
选择最优像素尺寸,以使所述多个阵列区域中的每一个阵列区域可具有在尺寸上是整数个像素的被编组单元,且
将所述成像装置的像素尺寸调整为所选择的最优像素尺寸。
2.如权利要求1所述的检验装置,其特征在于,还包括所述成像装置的倍数控制电子元件,其中所述倍数控制电子元件被用于调整所述像素尺寸。
3.如权利要求1所述的检验装置,其特征在于,所述成像装置包括可移动的衬底夹持器来将所述衬底的区域移动到所述成像装置的照明之下。
4.如权利要求1所述的检验装置,其特征在于,所述成像装置包括电子束检验工具。
5.如权利要求1所述的成像装置,其特征在于,所述计算机可读代码被设置为:当所述单元尺寸被用整数表达时,通过找到多个阵列区域的单元尺寸的最大公约数,来确定像素尺寸可用范围内的最优像素尺寸。
6.如权利要求5所述的成像装置,其特征在于,所述计算机可读代码被进一步设置为基于每一个最优像素尺寸来确定每一个阵列区域中需要被编组的单元的数量。
7.如权利要求6所述的成像装置,其特征在于,所述计算机可读代码被进一步设置为基于预设准则而确定所述最优像素尺寸中的哪一个,如果有的话,是可被接受的。
8.如权利要求7所述的成像装置,其特征在于,所述计算机可读代码被进一步设置为选择可被接受的最优像素尺寸作为被选择的最优像素尺寸。
9.如权利要求7所述的成像装置,其特征在于,所述计算机可读代码被进一步设置为:如果存在多个可被接受的最优像素尺寸的话,那么通过应用最终准则来选择所述可被接受的最优像素尺寸中的一个。
10.如权利要求9所述的成像装置,其特征在于,应用所述最终准则包括确定,当来自所有所述阵列区域的被编组单元中多个像素被加在一起的时候,哪一个可被接受的像素尺寸提供最少数量的总像素。
11.如权利要求7所述的成像装置,其特征在于,所述计算机可读代码被进一步设置为,如果基于所述预设准则,没有一个最优像素尺寸被确定为可被接受的,那么将多个阵列区域中的一个标记用于数字内插。
12.如权利要求11所述的成像装置,其特征在于,所述计算机可读代码被进一步设置为,通过将被标记的阵列区域移除来修改所述多个阵列区域的集合,并基于修改后的多个阵列区域的集合来选择最优的像素尺寸。
13.如权利要求1所述的成像装置,其特征在于,所述计算机可读代码被设置为在两维的每一维中选择最优的像素尺寸,并在所述两维中调整所述成像装置的像素尺寸。
14.使用成像装置同时自动地检验多个阵列区域的方法,所述方法包括:
照明衬底的区域;
从所述区域中检测图像数据,其中所述区域包括多个阵列区域的集合;
选择最优像素尺寸,这样所述多个阵列区域中的每一个阵列区域具有在尺寸上是整数个像素的被编组单元;以及
将所述成像装置的像素尺寸调整为所选择的最优像素尺寸。
15.如权利要求14所述的方法,其特征在于,还包括:
改变所述成像装置的倍数来调整所述像素尺寸。
16.如权利要求14所述的方法,其特征在于,还包括:
通过可移动的衬底夹持器在所述成像装置的照明下移动衬底的所述区域。
17.如权利要求14所述的方法,其特征在于,所述成像装置包括:
电子束检测工具,且所述区域由电子束照明。
18.如权利要求14所述的方法,其特征在于,还包括:
当单元尺寸用整数表达的时候,通过寻找所述多个阵列区域的单元尺寸的最大公约数来确定可用的像素尺寸范围内的最优像素尺寸。
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