[发明专利]气相生长装置

说明书

技术领域

本发明涉及气相生长装置，详细而言，本发明涉及一边使基板进行自转公转一边在基板表面上使半导体薄膜进行气相生长的自转公转型的气相生长装置。

背景技术

作为一次在多张基板上进行气相生长的气相生长装置，已知这样的自转公转型的气相生长装置：在公转基座的外周部周向上配置多个自转基座，在该自转基座的外周部设有外齿轮，通过使上述外齿轮和设在腔室内的固定内齿轮相啮合而使成膜中的基板进行自转公转(例如，参照专利文献1。)。

专利文献

专利文献1：日本特开2007-243060号公报

在上述那样的自转公转型的气相生长装置中，为了进行基板更换作业、维护作业而将公转基座拆下时，由于固定内齿轮与外齿轮的啮合脱开，因此在作业之后安装公转基座时，必须用手工操作使固定内齿轮和外齿轮啮合成规定的状态，在自转基座的数量较多的场合，仅进行啮合状态的确认就花去很多功夫和时间。另外，在固定内齿轮和外齿轮为非啮合状态时，自转基座变为大幅度倾斜的状态，在齿轮上作用有较大的力，齿轮有能够能发生崩齿。

发明内容

因此，本发明以提供一种能够使外齿轮和内齿轮成为自动啮合状态的自转公转型的气相生长装置为目的。

本发明的气相生长装置的第1技术方案是这样一种气相生长装置，其具有自转公转机构，该自转公转机构包括能够旋转地设在腔室内的圆盘状的基座、在该基座的外周部周向设置的能够旋转的多个外齿轮构件、具有与该外齿轮构件啮合的内齿轮的环状的固定内齿轮构件，其中，将上述基座及上述内齿轮构件中的至少任意一个形成为，能够在使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件相互啮合的啮合状态的位置和使该两齿轮构件在旋转轴线方向上分开的非啮合状态的位置之间沿旋转轴线方向移动；并且，在该两齿轮构件中的至少任意一个齿轮构件的齿侧面上设有引导斜面，在两齿轮构件从上述非啮合状态的位置移动到上述啮合状态的位置时，该引导斜面用于与该两齿轮构件中的另一个齿轮构件的齿侧面抵接而将两齿轮构件引导成上述啮合状态。

本发明的气相生长装置的第2技术方案是这样一种气相生长装置，其具有自转公转机构，该自转公转机构包括能够旋转地设在腔室内的圆盘状的基座、在该基座的外周部周向设置的能够旋转的多个外齿轮构件、具有与该外齿轮构件啮合的内齿轮的环状的固定内齿轮构件，其中，在用于支承上述基座并用于使该基座旋转的轴构件的上表面和该基座的中央部下表面之间以相对的方式设有上、下成一对的基座高度调节构件，该基座高度调节构件形成为，在各基座高度调节构件的相对面上，分别沿着周向形成有朝其所相对着的基座高度调节构件突出的突出面，在使突出面彼此抵接时，该基座高度调节构件将上述基座支承在比成膜时高的位置，使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件成为啮合的状态；在使突出尺寸较小的突出面彼此抵接时，该基座高度调节构件将上述基座支承在成膜时的位置，使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件成为规定的啮合状态。

本发明的气相生长装置的第3技术方案是这样一种气相生长装置，其具有自转公转机构，该自转公转机构包括能够旋转地设在腔室内的圆盘状的基座、在该基座的外周部周向设置的能够旋转的多个外齿轮构件、具有与该外齿轮构件啮合的内齿轮的环状的固定内齿轮构件，其中，将上述基座及上述内齿轮构件中的至少任意一个形成为，能够在使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件相互啮合的啮合状态的位置和使该两齿轮构件在旋转轴线方向上分开的非啮合状态的位置之间沿旋转轴线方向移动；并且，在两齿轮构件中的至少任意一个齿轮构件的齿侧面上设有引导斜面，在该两齿轮构件从上述非啮合状态的位置移动到上述啮合状态的位置时，该引导斜面用于与该两齿轮构件中的另一个齿轮构件的齿侧面抵接而将两齿轮构件引导成上述啮合状态；在用于支承上述基座并使其旋转的轴构件的上表面和基座的中央部下表面之间以相对的方式设有上、下成一对的基座高度调节构件；该基座高度调节构件形成为，在各基座高度调节构件的相对面上分别沿着周向形成有突出尺寸不同的突出面，在使突出尺寸较大的突出面彼此抵接时，该基座高度调节构件将上述基座支承在比成膜时高的位置，使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件成为利用上述引导斜面啮合的状态；在使突出尺寸较大的突出面与突出尺寸较小的突出面抵接时，该基座高度调节构件将上述基座支承在成膜时的位置，使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件成为规定的啮合状态。