[发明专利]气相生长装置有效
| 申请号: | 201080027286.2 | 申请日: | 2010-06-11 |
| 公开(公告)号: | CN102804339A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
| 发明(设计)人: | 山口晃;内山康右 | 申请(专利权)人: | 大阳日酸株式会社;大阳日酸EMC株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/205 | 分类号: | H01L21/205;C23C16/458;H01L21/683 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 相生 装置 | ||
1.一种气相生长装置,其具有自转公转机构,该自转公转机构包括能够旋转地设在腔室内的圆盘状的基座、在该基座的外周部周向设置的能够旋转的多个外齿轮构件、具有与该外齿轮构件啮合的内齿轮的环状的固定内齿轮构件,其中,
将上述基座及上述内齿轮构件中的至少任意一个形成为,能够在使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件相互啮合的啮合状态的位置和使该两齿轮构件在旋转轴线方向上分开的非啮合状态的位置之间沿旋转轴线方向移动;并且,在两齿轮构件中的至少任意一个齿轮构件的齿侧面上设有引导斜面,在该两齿轮构件从上述非啮合状态的位置移动到了上述啮合状态的位置时,该引导斜面用于与该两齿轮构件中的另一个齿轮构件的齿侧面抵接并将两齿轮构件引导成上述啮合状态。
2.一种气相生长装置,其具有自转公转机构,该自转公转机构包括能够旋转地设在腔室内的圆盘状的基座、在该基座的外周部周向设置的能够旋转的多个外齿轮构件、具有与该外齿轮构件啮合的内齿轮的环状的固定内齿轮构件,其中,
在用于支承上述基座并用于使该基座旋转的轴构件的上表面和该基座的中央部下表面之间以相对的方式设有上、下成一对的基座高度调节构件,该基座高度调节构件形成为,在各基座高度调节构件的相对面的周向上交替形成多组突出部和凹部,其中,该突出部朝与之相对的基座高度调节构件突出,该凹部形成在该突出部之间;在使上述一对的基座高度调节构件的突出部顶端面彼此抵接时,该基座高度调节构件将上述基座支承在比成膜时高的位置并使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件成为稍微啮合的状态;在使上述一对的基座高度调节构件的突出部位于上述凹部内时,该基座高度调节构件将上述基座支承在成膜时的位置,使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件成为规定的啮合状态。
3.一种气相生长装置,其具有自转公转机构,该自转公转机构包括能够旋转地设在腔室内的圆盘状的基座、在该基座的外周部周向设置的能够旋转的多个外齿轮构件、具有与该外齿轮构件啮合的内齿轮的环状的固定内齿轮构件,其中,
将上述基座及上述内齿轮构件中的至少任意一个形成为,能够在使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件相互啮合的啮合状态的位置和使该两齿轮构件在旋转轴线方向上分开的非啮合状态的位置之间沿旋转轴线方向移动;并且,在该两齿轮构件中的至少任意一个齿轮构件的齿侧面上设有引导斜面,在两齿轮构件从上述非啮合状态的位置移动到上述啮合状态的位置时,该引导斜面与该两齿轮构件中的另一个齿轮构件的齿侧面抵接并将两齿轮构件引导成上述啮合状态;在用于支承上述基座并用于使该基座旋转的轴构件的上表面和基座的中央部下表面之间以相对的方式设有上、下成一对的基座高度调节构件;该基座高度调节构件为,在各基座高度调节构件的相对面的周向上交替形成多组突出部和凹部,其中,该突出部朝与之相对的基座高度调节构件突出,该凹部形成在该突出部之间;在使上述一对的基座高度调节构件的突出部顶端面彼此抵接时,该基座高度调节构件将上述基座支承在比成膜时高的位置并使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件借助上述引导斜面成为啮合的状态;在使上述一对的基座高度调节构件的突出部位于上述凹部内时,该基座高度调节构件将上述基座支承在成膜时的位置,使上述外齿轮构件和上述内齿轮构件成为规定的啮合状态。
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