[发明专利]可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂、使用该涂布剂的近红外屏蔽膜及其制备方法有效
申请号: | 201080025641.2 | 申请日: | 2010-06-09 |
公开(公告)号: | CN102803413A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 石灰洋一;坂井章人;西川贵志;片冈健治;堀田清行;安藤英世;福田勇三;近藤頼佑;铃木和也 | 申请(专利权)人: | 石原产业株式会社 |
主分类号: | C09D183/02 | 分类号: | C09D183/02;B32B27/00;C03C17/25;C09D5/32;C09D7/12;C09D183/04;C09K3/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 徐国栋;林柏楠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 常温 固化 红外 屏蔽 涂布剂 使用 及其 制备 方法 | ||
1.一种可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂,其包含:
(1)无机近红外吸收剂;
(2)选自通式Si(OR1)4表示的四官能硅化合物、其水解产物及其缩聚物的至少一种,其中R1相同或不同且为具有1-10个碳原子的烷基;
(3)选自通式R2Si(OR3)3表示的三官能硅化合物、其水解产物及其缩聚物的至少一种,其中R2和R3各自相同或不同且为具有1-10个碳原子的烷基;
(4)选自通式Si(X)3-Y或R4Si(X)2-Y表示的硅烷偶联剂、其水解产物及其缩聚物的至少一种,其中X相同或不同且表示烷氧基、乙酰氧基或氯原子,R4为具有1-10个碳原子的烷基,且Y表示除烷基、烷氧基和乙酰氧基外的有机基团;和
(5)溶剂。
2.根据权利要求1的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂,其中所述组分(2)与(3)的重量比为1∶1-1∶10。
3.根据权利要求1的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂,其中所述组分(4)的含量相对于组分(2)和(3)的总量为1-30重量%。
4.根据权利要求1的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂,其中所述无机近红外吸收剂(1)为包含选自氧化锡、氧化铟、氧化锌和硼化镧的至少一种作为主要组分的细粒。
5.根据权利要求4的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂,其中所述无机近红外吸收剂为锑掺杂的氧化锡细粒。
6.根据权利要求1的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂,其中所述无机近红外吸收剂(1)的含量相对于涂布剂的固体总量为40-90重量%。
7.根据权利要求1-6中任一项的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂,其进一步包含紫外线屏蔽剂。
8.一种通过将根据权利要求1-7中任一项的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂应用于基质的至少一个表面上而形成的近红外屏蔽涂层。
9.根据权利要求8的近红外屏蔽涂层,其具有2H或更大的铅笔硬度。
10.根据权利要求8的近红外屏蔽涂层,其具有85%或更大的可见光透射率和85%或更小的太阳辐射透射率。
11.一种制备近红外屏蔽涂层的方法,其包括将根据权利要求1-7中任一项的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂应用于基质的至少一个表面上,并在常温下干燥近红外屏蔽涂布剂。
12.一种包含近红外屏蔽涂层的制品,所述近红外屏蔽涂层通过将根据权利要求1-7中任一项的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂应用于基质的至少一个表面上而形成。
13.根据权利要求12的制品,其中光催化涂层在至少一部分近红外屏蔽涂层上形成。
14.根据权利要求12的制品,其中所述近红外屏蔽涂层在基质的一个表面上形成,且光催化涂层在基质的另一表面上形成。
15.根据权利要求12-14中任一项的制品,其中所述基质为玻璃板或塑料板。
16.一种生产制品的方法,其包括将根据权利要求1-7中任一项的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂应用于基质的至少一个表面上,并在常温下干燥近红外屏蔽涂布剂。
17.一种生产制品的方法,其包括将根据权利要求1-7中任一项的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂应用于基质的至少一个表面上,然后将包含光催化剂的涂布剂应用于其上,并将试剂干燥。
18.一种生产制品的方法,其包括将根据权利要求1-7中任一项的可在常温下固化的近红外屏蔽涂布剂应用于基质的一个表面上,将包含光催化剂的涂布剂应用于基质的另一表面上,并将试剂干燥。
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